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SAL1000G ALD原子层沉积系统

参考报价: 面议 型号: SAL1000G
品牌: AGUS 产地: 日本
关注度: 30 信息完整度:
样本: 典型用户: 暂无
供应商性质生产商产地类别进口
价格范围150万-200万
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SAL1000G是一款包含手套箱小型桌面ALD原子层沉积系统,具有良好的均匀性及优越的阶梯覆盖性能,使用户能够精确控制每个原子层的沉积。通过手套箱,可在惰性气体环境下进行操作,并且可以防止吸入纳米级颗粒。该设备是小型且经济实惠的型号,与主机和控制电源相结合,追求仅在桌面上更容易操作。 它能够处理多达4“晶圆的沉积,并对每个部件采取安全措施。

AGUS提供沉积测试服务作为我们支持的一部分,以提高实验准确性。请随时与凯戈纳斯仪器商贸(上海)有限公司联系。

多样性 -

· 真空可移动的手套箱可以处理易氧化的样品。

· 前驱体标配两组阀门和气瓶。

· 可选择将前驱体加热至200摄氏度。

· 可选择基片自动旋转支架。

· 可选择粉体沉积配件。

· 可选择经济实惠的废气处理设备。

1.jpg

表现 -

· 保证基片表面上的每个均匀原子层针孔自由层沉积。

· 通过阶梯覆盖沉积在不均匀或3D形状的表面。

· 与CVD和PVD相比,可以获得更好的沉积,特别是对于具有更高纵横比和多孔沉积材料。

操作界面友好 -

· 触摸屏使用户可以轻松设置配方或沉积过程,并检查每个驱动系统的运动。

· 可进行自动沉积,并在沉积完成后自动完成N2排放。

· 手套箱的真空排气和惰性气体的引入也可自动完成。

安全性 -

· 这是具有各种互锁功能的高级设备。

 - 具有轻柔关闭功能的顶部舱口使用户可以轻松地装载和卸载基片。

 

性能



真空度

到达压力

≤5Pa

成膜性能

膜厚分布

≤± 3% (φ 100mm)

设备构成



设备型号

SAL1000G


成膜方向

下表面


基底尺寸

φ 100mm or 4 inch Max


基底加热器温度

350℃ Max


前驱体数

2


前驱体温度

150℃ Max


净化气体

N2 (气体控制:带流量计针型阀)


手套箱

有机玻璃,真空-氮气吹扫式


真空泵

162L/min 旋片式真空机械泵


重量

本体:50kg,手套箱:35kg,真空泵:27kg


可选配置

基片自动旋转支架

粉体沉积配件

废气处理设备

前驱体加热器- 200℃


安装要求



电源要求

电源

3相、 200V ± 10% 、15A 、50/60Hz

接地

<100Ω


线缆

5m 附赠


N2吹扫气体

供给压力

0.1 ~.0.2Mpa

接口

1/4 Swagelok


压缩空气

供给压力

0.6 ~0.8Mpa

接口

φ6mm 接口


真空泵排气口

排气口

KF-25法兰

设备排气口

排气口

φ38mm x   L28软管适配器

安装尺寸

W1000 x D700 x H900


 

 


SAL1000G ALD原子层沉积系统信息由凯戈纳斯仪器商贸(上海)有限公司为您提供,如您想了解更多关于SAL1000G ALD原子层沉积系统报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。

注:该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案,不可用于临床诊断或治疗等相关用途

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