帕克 NX-Hybrid WLI 全自动工业 WLI-AFM 系统 用于半导体元件的研发计量

产品介绍

Park NX-Hybrid WLI

AFM 和 WLI 技术集成系统

用于 200mm至 300mm 晶圆的全自动工业化 AFM-WLI 系统是业内最快捷、最准确、最通用的半导体计量工具。

Park NX-Hybrid WLI 是迄今为止首个内置白光干涉仪轮廓测量的 AFM 系统，可用于半导体元件的研发计量、过程控制和制造质量保证。

Park NX-Hybrid WLI 使用 WLI 模块在相当大的区域提供高吞吐量成像，并使用 AFM 在感兴趣的区域提供亚埃高度分辨率的纳米尺度计量。

Park NX-Hybrid WLI 提供了从大面积扫描到纳米级计量的终极解决方案，适用于各种应用，包括质量保证、自动缺陷检测、前端半导体工艺控制和后端先进封装。

Park NX-Hybrid WLI 无缝集成了自动化工业 AFM 系统和 WLI 轮廓仪。与前两种单独的工具解决方案相比，它能有效地节约成本、减少设备占用空间并能提供全新的最佳计量解决方案。

Park NX-Hybrid WLI可测量亚埃级精度的台阶高度

WLI 和 AFM

半导体计量的两种最佳互补技术

WLI

白光干涉测量是一种光学技术，具有成像区域广、速度快、吞吐量高的优点。

AFM

原子力显微镜是一种扫描探针技术，对所有样品材料（包括透明材料）都能提供最精确的纳米级分辨率测量。

技术参数：

WLI 规格

模式

WLI, PSI

最大扫描范围

WLI: 28 μm

PSI: 100 nm (0~5 μm)

垂直分辨率

0.1 nm

电动线性镜头更换器

2 lens

物镜放大的各种WLI规格

视野 (FOV)

2.5 x

4500 μm x 3754 μm

10 x

1125 μm x 938 μm

20 x

562 μm x 469 μm

50 x

225 μm x 187 μm

100 x

112 μm x 93 μm

AFM 规格

XY Scanner

100 μm × 100 μm

Z 扫描仪范围

15 μm

系统规格

300 mm 电动XY 平台

行程可达 400 mm × 300 mm,

0.5 μm 编码器

电动 Z 平台

25 mm Z 行程距离

电动聚焦平台

8 mm Z 行程距离

同轴光学

可装载样品厚度

厚至20 mm

尺寸 & 重量

300 mm 全系统

3836 mm (w) x 1450 mm (d) x 2160 mm (h)

w/ EFEM, 大约 2950 kg(包括控制柜)

天花板高度: 3000 mm 或以上

操作员工作空间: 5150 mm (w) x 3850 mm (d)

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途