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- Empower控制质谱使用小贴士（四）| 培训讲座进行时 发布时间：2024-04-09 17:00:00
- 每周两分钟，见证您成为Empower/质谱小达人！在前几期中，我们更新了3篇单四极质谱使用小贴士：(I)采集和处理SIR(2D)和MS all Scan(3D)数据(II)结合紫外谱图查看相关质谱信息(III)查看信噪比并对谱图进行平滑。本期，我们来看下如何理解含噪TIC图的成分检测算法（CODA）...... [全文]
- 【线上培训】沃特世GPC/APC聚合物分析技术应用交流会 发布时间：2024-04-09 17:00:00
- GPC/APC是最常见的聚合物表征手段，获取相对分子量和分布。但看似简单的分离原理，分析结果却经常遇到各种问题，总会面临到多样化的样品不知如何选择条件。作为老牌SEC色谱供应商，沃特世将邀请来自各个服务团队的工程师汇集在线上直播间，从GPC/APC日常分析流程、常见应用和维护问题等方面进行分享和交流...... [全文]
- 培训讲座：单四极质谱使用与维护 | 以旧换新进行中 发布时间：2024-04-03 17:43:59
- Waters ACQUITY QDa单四极质谱因其简单易用，同时又可以高度满足合规性要求（Empower控制），被广泛应用于制药、食品等各领域检测单位的研发与质检部门中。时光荏苒，ACQUITY QDa已发布十年，全球装机量超6500台！值此十周年之际，沃特世特别推出系列回馈活动，...... [全文]
- 新一代Online SPE在自来水检测中的应用 发布时间：2024-04-03 17:43:59
- 在线前处理Online-SPE结合液质联用技术，能够实现对样品（尤其是水样、血清、饮料、牛奶）中的有机物进行全自动的在线富集、净化、洗脱和定量分析；尤其在水质分析中，解决了需要大体积采样运输以及长时间前处理浓缩的难题。沃特世自从2010年推出第一代Online-SPE技术以来，经过两次变革，不断提升...... [全文]
- RAMMP方法与离子淌度结合，打开代谢组学分析新大门！ 发布时间：2024-04-03 17:43:59
- 大规模代谢表型研究需要进行准确和可重复的分析，但是当使用当前LC-MS分析方法时，大样本队列可能需要数周才能完成，且通常需要进行几批次分析。多批次数据采集可能导致分析的可重复性发生变化，由于每天信号强度的变化，批次之间会产生差异。减少整个批次运行时间可以大大提高这种再现性，同时增加实验室通量。典型的...... [全文]
- 沃土同耕，更上层楼 | 上药控股与沃特世举行合作签约仪式 发布时间：2024-04-03 17:43:59
- 2024年4月2日，上药控股与沃特世在上海举行了合作签约仪式。沃特世高级副总裁、首席财务官Amol Chaubal，沃特世副总裁、大中华区总经理李庆及中国管理团队其他成员，上药控股副总经理宋潞潞，上药国际供应链总经理吴琦及上药其他领导出席活动。图1.上药控股与沃特世签署协议。本次签约充分肯定了上药控...... [全文]
- Empower控制质谱使用小贴士（三）| 沃特世质谱以旧换新进行时 发布时间：2024-04-02 17:00:00
- 每周两分钟，见证您成为Empower/质谱小达人！在前两期中，我们分享了单四极质谱使用小贴士：(I)采集和处理SIR(2D)和MS all Scan(3D)数据(II)结合紫外谱图查看相关质谱信息。本期，我们来看下定量检测时如何来查看信噪比，并对谱图进行平滑。第1步：在没有任何平...... [全文]
- 4月9日，来认识您的生物分离新帮手吧！ 发布时间：2024-03-28 17:12:15
- 实验室都希望简化操作、提升效率，并且在提高方法转换和迁移成功率的同时，确保及时获得结果并最终控制成本。此外，分离生物分子时可能会遇到各种分析难题（如表面/分析物之间的不良相互作用），从而导致峰形不佳、回收率和灵敏度下降。生物制药实验室新时代即将到来！欢迎参加Waters Alliance iS HP...... [全文]
- 新格局、新机遇下的本土化战略 – 对话沃特世副总裁、大中华区总经理李庆 发布时间：2024-03-28 17:12:15
- 商务部在中国发展高层论坛2024年年会表示，中国将进一步扩大高水平对外开放，推进医药等领域的改革创新，让更多外资企业安心放心地投资中国，扎根中国发展。作为保障药物质量、推动人类健康发展的重要一环，沃特世公司在药物创新产业链中发挥着重要作用。近日，沃特世副总裁、大中华区总经理李庆先生接受了第一财经的专...... [全文]
- 半导体行业解决方案之PAG杂质鉴定、溯源 发布时间：2024-03-28 17:12:15
- 在半导体制造中的光刻技术通常占集成电路芯片制造成本的30%，并随着行业需求的发展，向着更小（更轻、更薄、更窄）的电路路径发展，例如ArF（193nm）或EUV（13.6nm）。如果激光改变，很多与光刻相关的材料也需要随之变化。例如光抗蚀剂涂层应该更薄，并更精确地控制紫外线曝光的反应。此外，配制后的光...... [全文]