昊量光电 石墨烯CVD制备设备 用于有机LED领域

CVD石墨烯薄膜的生产实际上是通过一系列处理，特别是高温处理，在金属基底上生长气体，直到气体在金属基底上完全生长。石墨烯本身是透明的。对于金属基底，是否有石墨烯附着在其上，颜色只有一点差异，这是普通人很难看到的。然而，这种方法制备的石墨烯的尺寸基本上取决于金属衬底的尺寸。

简要描述：石墨烯CVD制备设备配置的低真空CVD系统由1200℃真空管式炉,3通道气路系统和真空系统组成,可根据用户需要设计生产有双温区、三温区、多温区）,可预抽真空（有高真空、低真空）,通多种气氛（供气系统有质子流量控制器和浮子流量控制器〕。真空泵、阀均釆用进口设备,性能可靠。控制电跻选用模糊PD程控技术,具有控温精度髙,温冲幅度小,性能可靠,简单易操作等特点。

技术参数

1200双温区加热炉

电压 AC220V 50/60Hz

功率 4.5KW 双温控

Max温度 1150 °C

工作温度 ≤ 1100 °C

升温速率 ≤  15°C/min

温控系统 PID自动控制晶闸管（可控硅）输出功率，30段可编程控制器

恒温精度 ±1°C

石英管 25/50/60/80*1400mm

三路质量流量控制系统

MAX电压 185~245V/50Hz

MAX输出功率  18W

流量计标准量程 50，100，200，500SCCM（非特殊以氮气标定，量程可选定）

工作温度 5~45  °C

工作压差 0.1~0.5 MPa

MAX压力 3MPa

准确度 ±1.5%FS

低真空系统

采用双极旋片真空泵

不锈钢充油真空压力表，良好的抗震性

安装过滤器

内置测温系统

测温元件可从加热区边缘延申至温区中心法兰密封，保证炉管的密封性测温元件，N型热电偶

法兰及支撑

304不锈钢快速水冷法兰，长期水冷无腐蚀，一个卡箍就能完成法兰的连接，放取物料方便快捷可调节法兰的支撑，平衡炉管的受力支撑。包含进气，出气，真空抽口针阀，KF密封圈及卡箍组合，4个密封硅胶圈等。

可选配件

混气系统，中，高真空系统，各种刚玉坩埚，石英管，计算机控制软件，无纸记录仪，氧含量分析仪，冷却水循环机。

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途