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北京量拓科技有限公司
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| 参考报价： | 面议 | 型号： | EMPro31 |
| 品牌： | 量拓科技 | 产地： | 暂无 |
| 关注度： | 34 | 信息完整度： |  |
| 样本： | 典型用户： | 暂无 | |
| 供应商性质 | 生产商 |
| 单次测量时间 | 0.2s | 膜厚测量重复性 | 0.01nm (对于Si基底上110nm的SiO2膜层) |
| 折射率精度 | 1x10-4 (对于Si基底上110nm的SiO2膜层) | 入射角度 | 40°-90°可选，步进5° |
| 样品台尺寸 | Φ170mm |
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纳米薄膜高端研发领域专用的多入射角激光椭偏仪，用于纳米薄膜的厚度、折射率n、消光系数k等参数的测量。适用于光面或绒面纳米薄膜测量、块状固体参数测量、快速变化的纳米薄膜实时测量等不同的应用场合。采用量拓科技多项专利技术，仪器操作具有个性化定制功能，方便使用。
高精度、高稳定性
一体化集成设计
快速、高精度样品方位对准
多入射角度测量
快速反应过程的实时测量
操作简单
丰富的材料库及物理模型
强大的数据分析和管理
可对纳米薄膜层构样品的薄膜厚度、折射率n及消光系数k进行快速、高精度、高准确度的测量，尤其适合于科研和工业产品环境中的新品研发
可用于表征单层纳米薄膜、多层纳米层构膜系，以及块状材料（基底）。
应用领域涉及纳米薄膜的几乎所有领域，如微电子、半导体、集成电路、显示技术、太阳电池、光学薄膜、生命科学、电化学、磁介质存储、聚合物及金属表面处理等。
高稳定性的He-Ne激光光源、高精度的采样方法以及低噪声探测技术，保证了系统的高稳定性和高准确度
.高精度的光学自准直望远系统，保证了快速、高精度的样品方位对准
稳定的结构设计、可靠的样品方位对准，结合先进的采样技术，保证了快速、稳定测量
分立式的多入射角选择，可应用于复杂样品的折射率和绝对厚度的测量
一体化集成式的仪器结构设计，使得系统操作简单、整体稳定性提高，并节省空间
专用软件方便纳米薄膜样品的测试和建模。
激光波长
| 632.8nm (He-Ne laser) |
膜厚测量重复性 | 0.01nm (对于Si基底上110nm的SiO2膜层) |
折射率精度 | 1x10-4 (对于Si基底上110nm的SiO2膜层) |
光学结构 | PSCA |
激光光束直径 | <1mm |
入射角度 | 40°-90°可选，步进5° |
样品方位调整 | 三维平移调节 二维俯仰调节 光学自准直系统对准 |
样品台尺寸 | Φ170mm |
单次测量时间 | 0.2s |
推荐测量范围 | 0-6000nm |
zei大外形尺寸(长x宽x高) | 887 x 332 x 552mm (入射角为70º时) |
仪器重量（净重） | 25Kg |
多入射角激光椭偏仪信息由北京量拓科技有限公司为您提供，如您想了解更多关于多入射角激光椭偏仪报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。
注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途
