Webinar: XPS技术原理和应用介绍(5.22)

　　讲座主题：XPS技术原理和应用介绍

　　时间：2014年5月22号 10:00-11:00

　　摘要：X射线光电子能谱(XPS) 技术是一种重要的表面分析手段。该技术基于光电效应，采用X射线激发被测样品表面纳米尺度内的原子发射光电子，通过系统探测到所发射光电子的动能等信息，进而实现样品表面的元素种类及化合态的定性和定量的分析。XPS的分析范围广泛，可对从Li到U范围内的元素进行研究，因而不仅被广泛地应用于化学分析、材料开发应用研究、物理理论探讨等学术领域，还被广泛地应用于机械加工、印刷电路技术、镀膜材料工艺控制、纳米功能材料开发等工业领域。在本次网络讲堂中，我们将从基本技术原理来了解XPS的功能和应用，并进一步分享赛默飞XPS产品提供的行业解决方案实例。

　　讲座要点：

　　1. XPS的基本技术原理

　　2. XPS的主要功能和应用原理

　　a) 元素定量

　　b) 价态识别

　　c) 深度剖析

　　d) XPS成像

　　e) 其他扩展功能和多技术结合

　　3. 赛默飞XPS产品的行业应用实例：催化分析/生物医药/钢铁等行业的材料分析

　　主讲人简介：

　　葛青亲 博士，赛默飞表面分析应用专家

　　邮箱：albert.ge@thermofisher.com

　　敬请您的光临!

　　报名方法：

　　登录 http://info1.thermoscientific.com/forms/XPS_Webinar_20140522在线填写报名信息，我们将于会议前一天把本次在线讲座的详细访问信息发送到您注册的邮箱中。

　　了解会议详情，请联系赛默飞分子光谱 张爱琴 010-84193588-3649 Email: annie.zhang@thermofisher.com