薄膜热应力测量系统（薄膜应力仪，薄膜应力计，薄膜应力测试仪），测量光学设计MOS传感器荣获美国专利！同时KSA公司荣获2008 Innovation of the Year Awardee！

该设备已经广泛被全球著名高等学府（如：Harvard University 2套，Stanford University，Johns Hopkins University，Brown University 2套，Karlsruhe Research Center,Max Planck Institute，西安交通大学，中国计量科学研究院，中科院微系统研究所，上海光机所等）、半导体制和微电子造商（如IBM.，Seagate Research Center,Phillips Semiconductor,NEC，Nissan ARC,Nichia Glass Corporation）等所采用；

同类设备：

薄膜应力测试仪（薄膜应力测量系统，薄膜应力计）；

薄膜残余应力测试仪；

实时原位薄膜应力仪；

技术参数：
Film Stress Tester, Film Stress Measurement System，Film Stress Mapping System;

1.变温设计：采用真空和低压气体保护，温度范围RT~1000°C；

2.曲率分辨率：100km；

3.XY双向程序控制扫描平台扫描范围：200mm；300mm（可选）；

4.XY双向扫描速度：zei大20mm/s；

5.XY双向扫描平台扫描zei小步进/分辨率：2 μm ；

6.薄膜应力测量范围：5×10⁵到4×10¹⁰dynes/cm2（或者5×10⁴Pa to 4×10⁹Pa）；

7.薄膜应力测量分辨率：优于0.1MPa;

8.测量精度：优于±0.1%；

9.测量重复性：优于0.1%；

1.专利技术：MOS多光束技术（二维激光阵列）；
2.变温设计：采用真空和低压气体保护，温度范围RT~1000°C；
3.样品快速热处理功能；
4.样品快速冷却处理功能；
5.温度闭环控制功能，保证极佳的温度均匀性和精度;
6.实时应力VS.温度曲线；
7.实时曲率VS.温度曲线；
8.程序化控制扫描模式：选定区域、多点线性扫描、全面积扫描； 
9.成像功能：样品表面2D曲率成像，定量薄膜应力成像分析； 
10.测量功能：曲率、曲率半径、薄膜应力、薄膜应力分布和翘曲等；
11.气体（氮气、氩气和氧气等）Delivery系统；

薄膜热应力测量系统信息由巨力科技有限公司为您提供，如您想了解更多关于薄膜热应力测量系统报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。

注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途