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中昊清远（北京）科技有限公司
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| 参考报价： | 面议 | 型号： | IonEtch Sputter Gun |
| 品牌： | 特科特拉 | 产地： | 德国 |
| 关注度： | 16 | 信息完整度： |  |
| 样本： | 典型用户： | 暂无 | |
| 供应商性质 | 区域代理 | 产地类别 | 进口 |
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溅射离子枪主要用途:
溅射清洗/表面科学中样品表面处理, MBE and HV 溅射过程
离子辅助沉积
离子束溅射镀膜
反应离子刻蚀
技术指标:
| 离子能量 | 25eV - 5keV |
| 总的离子束电流 | 1mA (at 5kV with Argon) High Current Version: up to 4mA (at 5kV with Argon) |
| 电流密度 | 120μA/cm2 at 100mm working distance |
| 离子束发散角 | Ion energy dependant (typically 15°) |
| 工作距离 | 100 mm (typically) |
| 等离子体杯 | Alumina (superior than other dielectric materials due to highest yield of secondary electrons) |
| 气体进气口径 | CF-16 (1.33“OD) |
| 气体流速 | 1 - 5 sccm (1,5 sccm typical, gas dependant) |
| 工作真空度 | 10-6mbar - 10-3mbar (1x10-5mbar typical in chamber with 300l/s pimp). Low 10-6 mbar range possible - beam current then 140μA max. |
| 激发模式 | 微波放电等离子体 (无灯丝) |
| 安装口径 | CF-35 (2.75“OD) |
| 枪直径 | 34mm (真空端) |
| 泄露阀 | 需要气体质量流量计 |
溅射离子枪，等离子体发生源信息由中昊清远（北京）科技有限公司为您提供，如您想了解更多关于溅射离子枪，等离子体发生源报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。
注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途
