利用NexION 2000 ICP-MS对半导体级盐酸中的杂质进行分析

在半导体设备的生产过程中，许多流程中都要用到各种酸类试剂。其中最重要的是盐酸（HCl），其主要用途是与过氧化氢和水配制成混合物用来清洁硅晶片的表面。由于半导体设备尺寸不断缩小，其生产中使用的试剂纯度变得越来越重要，这是因为即使是少量杂质也会导致设备的失效。国际SEMI 标准规定的是金属杂质的最大浓度（SEMI 标准C27-07081 用于盐酸），而半导体设备的生产商对杂质浓度的要求往往更加严格，这样就给试剂供应商带来了更大的挑战。其结果是，分析仪器也必须能够对更低浓度的杂质成分精确检测。

电感耦合等离子体质谱（ICP-MS）具备精确测定纳克/ 升（ng/L，PPT）甚至更低浓度元素含量的能力，是最适合测量痕量及超痕量金属的技术。然而，常规的测定条件下，氩、氧、氢离子会与酸基体相结合，对待测元素产生多原子离子干扰。

珀金埃尔默公司的NexION® 2000 电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）可提供多种彻底消除多原子离子干扰的方式。具有三路气体通道的通用池在反应模式下具备最大的做样灵活性。由于通用池是由四极杆组成的，具备四极杆的所有功能，包括通过调整四极杆的“q”参数控制通用池中的化学反应进行。这一优势使得在池内使用高反应性气体成为可能，这大大提高了干扰去除的能力。在三路气体通道可用的情况下，三种不同的气体可以在同一次进样中自由切换，得以选择出针对某一特定干扰消除的最佳反应气体。在盐酸分析中，除去氯的干扰是至关重要的，目前最有效的反应气是100% 高纯氨气和100% 高纯氧气。