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利用NexION 2000 ICP-MS 对 半 导 体 级 盐 酸 中 的 杂 质 进 行 分 析

发布时间: 2018-05-09 15:05 来源:珀金埃尔默企业管理(上海)有限公司
领域: 电子/电器/半导体
资料类型:其他资料
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利用NexION 2000 ICP-MS 对 半 导 体 级 盐 酸 中 的 杂 质 进 行 分 析

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在半导体设备的生产过程中,许多 流程中都要用到各种酸类试剂。其 中最重要的是盐酸(HCl),其主要 用途是与过氧化氢和水配制成混合物用来清洁硅晶片的表面。由于半导体设备尺寸 不断缩小,其生产中使用的试剂纯度变得越来越重要,这是因为即使是少量杂质也 会导致设备的失效。国际 SEMI 标准规定的是金属杂质的最大浓度(SEMI 标准 C2707081 用于盐酸),而半导体设备的生产商对杂质浓度的要求往往更加严格,这样 就给试剂供应商带来了更大的挑战。其结果是,分析仪器也必须能够对更低浓度的 杂质成分精确检测。

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