1、750mm焦距光栅设计，帕型-龙格装置，高真空，分辨率高、灵敏度高等特点；由于机刻光栅可以产生较高级次的光谱，所以选线更具灵活性，从而避免光谱干扰。

2、仪器结构设计合理，电子系统采用国际标准机笼，高集成化电路设计，故障率低。

3、分析速度快、重复性好、稳定性好。

4、采用高稳定的数字光源，激发频率在100—1000Hz之间变化，分析不同的样品，可选择不同的激发参数，可达到**的分析效果。

5、采用高集成化的采集和控制系统，自动化程度高。

6、采用进口的光电倍增管，具有暗电流小、信噪比高、使用寿命长等特点。

7、分析扫描过程可同时对所有元素进行扫描，扫描过程简单，可快速分析出每个元素相对于基体元素的偏差。

8、激发样品过程中，无需对激发台进行水冷却，可连续分析样品也能达到较好的数据。

9、测控系统采用单板机测量与控制，与上位计算机进行数据交换，提高了运行速度。

10、通过计算机软件来调整每个通道的光电倍增管负高压，通道负高压分8档调整，从而大大地提高通道的利用率和分析谱线的**线性范围在分析不同材质中的采用，减少了通道的采用数量，降低了成本。

11、可用于多种基体分析：Fe、Co、Cu、Ni、Al、Pb、Mg、Zn、Sn等。

12、采用纯中文Windows系统下的操作软件，操作简单易懂。

13、计算机软件建有数据库系统，方便了测量数据的查询与打印，也可通过网络远程传输数据，方便快捷。

14、各项系统独立供电，组成单元，使用方便，维护简单。

15、采用光学部分恒温措施，保证了仪器的正常运行，从而降低了对环境的要求。

16、采用高精度直线电机进行入缝扫描，速度快，精确度高。

17、采用整体出射狭缝，方便增加通道。

1、激发光源：

⑴ 供电电压：50Hz、220V±1%

⑵ 输入功率：1.0KVA

⑶ 充电电容：预燃7.5μF，曝光1.5μF

⑷ 峰值电流：预燃120A，曝光30A

⑸ 主回路峰压：300VDC(采用自动调整峰压)

⑹ 引燃电路：脉冲幅度：+15KV
     辅助间隙：采用隧道二极管

     放电频率：数字光源100Hz--1000Hz

2、激发台

⑴ 样品台分析间隙：4mm

⑵ 充氩气样品架，无需水冷却

⑶ 分析时间间隔：一般不到1分钟

3、分光仪

⑴ 分析波段范围：160~450nm

⑵ 光栅：曲率半径  750mm         

刻划密度：2400线/mm

刻划面积：30×50mm2

闪耀波长（一级）：300nm
线色散：0.55nm/mm

⑶ 入射狭缝宽度：20μm

⑷ 出射狭缝宽度：50μm、75μm

⑸ 光电倍增管：直径28mm,10级侧窗管，熔融石英或玻璃外壳

⑹ 允许最多通道：24个（可扩张到48个通道）

⑺ 分光仪局部恒温：38℃±0.2℃

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