全球专业的沉积设备制造商，为各个领域的客户提供完善的薄膜沉积解决方案：电子束蒸发系统、热蒸发系统、超高真空蒸发系统、分子束外延MBE、有机分子束沉积OMBD、等离子增强化学气相淀积系统PECVD/ICP Etcher、电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积、离子泵等

1.蒸镀源Cell&电源：
•有机金属沉积蒸镀Cell
--zei大温度: 500℃
--坩埚容积和材料: 2~200 cc and Quartz, Graphite,etc
--包含Shutter and Cooling shroud (选件)
--电源:15A, 20V
--温度控制: PID control
•金属沉积蒸镀Cell
--zei大温度: 1,400℃(up to 1,800 ℃)
--坩埚容积和材料: 2~120 cc and Al2O3, BN, PBN, etc
•包括shutter和Cooling shroud
•电源: 30A, 80V
•温度控制：ntrol : PID control

2.薄膜沉积控制：
•Cygnus and PC控制
--控制沉积参数
----多达6源同时沉积
--石英晶体振荡器
----一个, 两个或六个
•膜厚测量
--石英晶体振荡器
----一个, 两个或六个

3.真空室：
•圆柱形腔体
--直径: φ300 ~ 1,000 mm (Substrate : 1 inch to 370 ×400 mm)
-- 高度: 300 ~ 700 mm
•方形腔体
--根据客户需求定制

4.真空泵和测量装置：
•低真空: 干泵和convectron真空规
•高真空: 涡轮分子泵，低温泵和离子规
•超高真空: 离子泵和离子规

5.控制系统：PLC, PC with Touch Screen

扩展功能：
•温度控制器：基底加热
•He cooling 装置：基底冷却
•LN2or CW 冷却系统
•传递单元：样品传递在有机和金属处理时
•带自动样品递送装置的Loadlock样品加载系统

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途