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其它实验室常用设备
GPC-150A精确磨抛控制仪
GPC-150A精确磨抛控制仪简称磨抛控制仪,主要用来控制被研磨样品表面的平面度和平行度,使磨抛后的样品具有高的尺寸精度和质量优良的表面状态。磨抛控制仪采用质量......
YT-01/02平行载片粘合压片/光固化装置
YT-01/02平行载片粘合压片/光固化装置是由YT-01 真空粘合压力台 、YT-02 精密粘合压力台 、微型真空泵组成。该套装置能够完成将样本包埋块粘接到上......
VTC-200真空旋转涂膜机
VTC-200真空旋转涂膜机具有操作简单、清理方便,体积小巧等优点,主要应用于各大专院校、科研院所的实验室中进行薄膜的生成过程。VTC-200真空旋转涂膜机工作......
VTC-100真空旋转涂膜机
产品名称VTC-100真空旋转涂膜机产品型号VTC-100安装条件本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水:......
VTC-50A旋转涂膜机
产品简介:GPC-50A精确磨抛控制仪简称磨抛控制仪,主要用来控制被研磨样品表面的平面度和平行度,使磨抛后的样品具有高的尺寸精度和质量优良的表面状态。磨抛控制仪......
SYJ-40快速切割机
SYJ-40快速切割机用于晶体、陶瓷、石英玻璃、PCB板、岩样、矿样及金相试样等材料的粗加工,本机适用加工的材料范围广,适合于大专院校、科研院所使用。SYJ-4......
4面精密微米级制膜器
产品详细介绍:4面精密微米级制膜器是一款精密的刮膜器,有4个面,每个面的涂覆厚度分别具有不同的涂膜厚度,详见表2。该种制膜器主要有两种宽度,一种为宽度100㎜制......
MSK-ESC-R2R卷对卷静电纺丝系统
产品简介:MSK-ESC-R2R卷对卷静电纺丝系统是一款桌面型静电纺丝涂布系统,配有自动卷对卷放料和收料系统。注射泵连续精确的输送浆料,以达到均匀纺丝制膜的效果......
VTC-200PV真空旋转涂膜机
产品简介:VTC-200PV真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。本机可以对涂膜机腔室进行抽真空......
STX-4001型金刚石线切割机
产品简介:STX-4001金刚石线切割机可用于陶瓷、玻璃、红外光学材料(如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体)、热电材料(如碲化铋,碲化铅、硅锗合金等)、岩样、PCB......
STX-1200-A轴摇摆旋转机构
产品名称STX-1200-A轴摇摆旋转机构产品型号STX-1200-A主要特点1、采用专业铝材作为机体,减震,耐腐蚀。2、有效地提高切割效率以及金刚石线的使用寿......
GPC-100A精确磨抛控制
产品名称GPC-100A精 确磨抛控制仪产品型号GPC-100A主要特点可严格控制被磨样品表面的平行度和平面度,控制准确度高。研磨过程中可搭配数显测厚......
32工位高通量XRF检测仪
产品简介:32工位高通量XRF检测仪(XRF-S32)是一款高通量XRF检测仪,可一次检测32个样品,缩短整个测试实验周期。该系统主要由手持式XRF检测仪、二轴......
CXQ-2700高通量冷镶嵌机
产品简介:CXQ-2700高通量冷镶嵌机主要用于各种样品的冷镶嵌,尤其是线路板和带有微细孔的材料。在工业中,还可与染色剂配合,用于各种缺陷的检查。本机原理是把空......
RH50-32
产品简介:RH50-32 高通量硬度检测仪选用的Equotip Portable Rockwell的测量原理沿用传统的洛式硬度静态检测法,使用Equotlp p......
GSL-1600X-VIGA300气体雾化金属粉末制备
产品简介:GSL-1600X-VIGA300气体雾化金属粉末制备系统是最新研制开发的冶金设备,可用于制备铁基金属粉末、镍基金属粉末、铜粉末、贵金属粉末等。与同类......
VTC-600-1HD单靶磁控溅射仪
VTC-600-1HD单靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜......
OTF-1200X-RTP-II近距离蒸发镀膜(CSS)炉
产品简介:OTF-1200X-RTP-II近距离蒸发镀膜(CSS)炉是一款快速蒸发管式炉,专门用于PVD或CSS法制作薄膜;其炉管外径为11″,炉管内载样盘可放......
GSL-1700X-SPC-2小型程序控温蒸发镀膜仪
产品简介:GSL-1700X-SPC-2小型程序控温蒸发镀膜仪可设定程序,并精确控制温度200oC-1500oC(或者1200oC-1700oC),最大可蒸镀直......
GSL-PECVD-300化学气相沉积
产品简介:GSL-PECVD-300化学气相沉积采用等离子体增强型化学气相沉积技术,基本温度低,沉积速率快,在光学玻璃、硅、石英以及不锈钢等不同衬底材料上沉积氮......
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