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沈阳科晶自动化设备有限公司
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| 参考报价： | 面议 | 型号： | ZK |
| 品牌： | 沈阳科晶 | 产地： | 辽宁 |
| 关注度： | 764 | 信息完整度： |  |
| 样本： | 典型用户： | 暂无 |
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ZK型微波真空烧结炉是标准化多功能微波高温真空实验工作站，适用于各种气氛条件下的合成、焙烧、热处理、烧结等工艺研究。尤能实现微波真空合成或烧结，并可对易受气氛影响的实验提供更为精细的气氛控制。
产品型号 | ZK型微波真空烧结炉 |
主要特点 | 1、采用工业级微波源，微波输出功率无级可调，确保设备连续稳定长时间运行。 2、配置二级真空机组和二路气氛控制系统，可为样品实验提供高真空或精细气氛条件。 3、各种独创的坩埚和保温结构供选择，对物料无污染。 4、大幅度提高实验效率，物料加热速度快，均匀性好，烧结材料晶粒小，性能好。 |
技术参数 | 型号ZK4516ZK6016电压380±10V 50Hz 三相380±10V 50Hz 三相额定功率13KW15KW微波输出功率0.01～4.20kW 连续可调0.01～5.60kW 连续可调微波频率2.45GHz2.45GHz工作温度气氛保护下≤1600℃真空条件下≤1500℃气氛保护下≤1600℃真空条件下≤1500℃加热空间Φ150×120mm(直径×高)Φ180×150mm(直径×高)测温方式红外测温仪红外测温仪测温范围及精度300～1800℃；读数±0.1%300～1800℃；读数±0.1%静态极限真空度≤10-3Pa≤10-3Pa气氛系统二路气氛控制管路；可充氧化气体、惰性气体、还原气体等，持续保持高真空二路气氛控制管路；可充氧化气体、惰性气体、还原气体等，持续保持高真空加热平台旋转密封磁流体磁流体加热平台旋转速率4-6rpm4-6rpm控制方式PLC（品牌：三菱）;触摸屏（品牌：施耐德）PLC（品牌：三菱）;触摸屏（品牌：施耐德）控制程序40段可设工艺参数，带数据存储，导出实验数据；可手动、自动、恒温控制模式，曲线实时显示；动态数据屏保；一键式自动高真空启动40段可设工艺参数，带数据存储，导出实验数据；可手动、自动、恒温控制模式，曲线实时显示；动态数据屏保；一键式自动高真空启动气动控制控制气动真空挡板阀门控制气动真空挡板阀门防微波泄漏微波泄露水平＜0.5mW/cm2微波泄露水平＜0.5mW/cm2磁控管报警超温报警、过流报警超温报警、过流报警炉门防护报警炉门关紧开关炉门关紧开关冷却水报警流量报警流量报警移动式循环冷却水流量2m3/h，额定制冷量5.2KW流量2m3/h，额定制冷量5.2KW主体部分约2100×1600×2000mm（长×宽×高）约2100×1600×2000mm（长×宽×高）
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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途
