出众的低能端分析性能，保证所有尺寸的能谱仪皆可探测到Be元素

使用大面积能谱仪意味着：

低束流下有足够的计数率

尽可能高的实现图像的可视性及准确性

无需为能谱分析改变SEM的条件

在相同束流下，极大地提高计数率

缩短采集时间

统计性更高

实现小束斑下的能谱分析

提高能谱检测的空间分辨率

尽可能体现高分辨电镜的优势

晶体面积越大，X-射线计数效率越高
相同条件下，晶体面积越大：

以前需要几分钟完成的工作，现在仅需要几秒钟——面/线分布更易获得

采集时间相同，可极大地提高分析精度及统计性

大面积能谱仪——快速获得所有显微分析结果

优异的低能端分析性能
X-MaxN 为低能端元素的分析做了巨大的优化——无论何种尺寸，均前所未有的表现出优异的低能端分析性能

所有尺寸的能谱仪均可保证检测到Be，可获得SiLI峰的面分布

超大面积的能谱仪——均具有优异的低能端分析性能

优异的空间分辨率
高空间分辨率，X射线扩展区域更小

大面积能谱仪可以在低加速电压及低束流下采集X-射线

纳米尺度的特征可以更好的被检测到

超大面积的能谱仪——使高级的纳米分析成为可能

150 mm2 的能谱仪比小晶体面积的优势在哪里？
举例为证。加速电压20kV，束流不到2nA时，150 mm2 的能谱仪每秒即可输出200,000的计数。而使用10 mm2 的能谱仪时，需要近20nA下才可达到相同的计数率。

下图显示不同束流下的典型计数率，20kV下分析纯Mn时，探测器检出角30°且距样品45mm。使用大面积能谱仪，无需增加束流即可极大地增大计数率。也就是说在低束流下，保证高空间分辨率及低辐照损伤的同时可以获得足够多的计数。左图显示束流增加对改善图像质量的影响。

点击图像可查看大图

束流对纳米材料分析的影响

当使用晶体面积小的能谱仪，需要高束流来满足足够的计数率，但会损害空间分辨率。超大面积能谱仪X-MaxN 150可以在低束流即高空间分辨率下获得足够多计数，因此可以成功实现纳米材料的检测与分析。

右图：纳米结构在5kV下的X-射线面分布。计数率相同时，150mm2的能谱仪所需束流更低，意味着空间分辨率足够高可以分辨出纳米尺度的变化，且极大地减弱了样品的辐照损伤。相反，10mm2的能谱仪则需要更高的束流，却会严重损害空间分辨率，使得面分布图像模糊不清。

右图：在0.2 nA, 3 kV下使用150 mm2 X-MaxN 的能谱仪对记忆合金中的纳米结构进行分析。可以观察到FeLa，NiLa及CuLa峰显示出的纳米结构分布差异，zei小可以区分出20nm宽度的结构。