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牛津仪器科技（上海）有限公司
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| 参考报价： | 面议 | 型号： | PlasmaPro 100 ALE |
| 品牌： | 牛津仪器 | 产地： | 英国 |
| 关注度： | 1456 | 信息完整度： |  |
| 样本： | 典型用户： | 暂无 |
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我们的设备和工艺已通过充分验证，正常运转时间可达90%以上，一旦设备安装完毕，可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市场应用广，包括但不限于： MEMS和传感器、光电子、分立元器件和纳米技术。它具有足够的灵活性，可用于研究和开发，通过打造质量满足生产需求。
PlasmaPro 100 ALE 的特点:
准确的刻蚀深度控制；
光滑的刻蚀表面
低损伤工艺
数字化/循环式刻蚀工艺——刻蚀相当于ALD
高选择比
能加工最大200mm的晶圆
高深宽比（HAR）刻蚀工艺
非常适于刻蚀纳米级薄层
应用
III-V族材料刻蚀工艺
固体激光器InP刻蚀
VCSEL GaAs/AlGaAs刻蚀
射频器件低损伤GaN刻蚀
硅 Bosch和超低温刻蚀工艺
类金刚石（DLC）沉积
二氧化硅和石英刻蚀
用特殊配置的PlasmaPro FA设备进行失效分析的干法刻蚀解剖逆工艺，可处理封装好的芯片, 裸晶片，以及200mm晶圆
高质量PECVD沉积的氮化硅和二氧化硅，用于光子学、电介质层、钝化以及诸多其它用途
用于高亮度LED生产的硬掩模沉积和刻蚀
牛津仪器PlasmaPro 100 ALE原子层刻蚀信息由牛津仪器科技（上海）有限公司为您提供，如您想了解更多关于牛津仪器PlasmaPro 100 ALE原子层刻蚀报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。
注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途
