双靶磁控溅射仪--VTC-600-2HD

• 溅射电源

• 安装有两个溅射电源

• 直流（DC）电源：500W，针对于制作金属膜

• 射频（RF）电源：600W，可制作氧化物和金属膜

• 同时可选配300W的射频电源
    

磁控溅射头

• 仪器中安装有2个磁控溅射头，而且都带有水冷夹层，可通入冷却水对靶材降温

• 其中一个溅射头与射频电源相连接，主要是溅射绝缘性靶材

• 另一个溅射头与直流电源相连接，主要溅射导电性靶材

• 靶材尺寸要求：金属靶：直径为50mm,最大厚度1.5mm

•              陶瓷靶：直径为50mm,最大厚度6mm

• 仪器中标配一个不锈钢靶和氧化铝陶瓷靶

• 溅射头所需冷却水：流速10ml/min（仪器中配有一台流速为16ml/min的循环水冷机）
     

也可以根据自己的要求选择2个射频溅射头或3个射频溅射头，订购前需于本公司销售人员联系

真空腔体

• 真空腔体：300 mm Dia x 300 mm h，采用不锈钢制作

• 观察窗口：  100 mm

• 腔体打开方式采用上顶开，使得换靶更加容易
   

载样台

• 载样台尺寸：140mm （最大可放置4"的基底）

• 载样台可以旋转，其速度为：1 - 20 rpm （可调）

• 载样台最高可加热温度为500℃，控温精度为+/- 1.0 °C
  

气体流量控制器

• 仪器内部安装有2个质量流量计

• 量程为：0-200sccm

• 气体流量设置可以在6英寸的触摸屏上进行操作

真空泵系统

配有一套分子泵系统（德国制作），采用一键式操作

薄膜测厚仪

• 一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上，可实时监测薄膜的厚度，分辨率为0.10 ?  

• LED显示屏显示，同时也输入所制作薄膜的相关数据
  

外形尺寸

L1300mm× W660mm× H1200mm

重量

160 kg