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英国Quorum K675X大样品镀膜仪

参考报价: 请咨询:025-85432178 型号: K675X
品牌: 暂无 产地: 暂无
关注度: 29 信息完整度:
样本: 典型用户: 暂无
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K675X溅射镀膜仪可用于8英寸(200mm)晶圆镀膜。主机系统具有双齿转动样品台,可进行渐进的椭圆形转动,这样使得溅射沉积更均匀。
K675X溅射镀膜系统装有磁电管靶可增加溅射效率,它使用低电压,可得到薄而精细的涂层。
在K675X中放置了三个靶面,可镀非常大直径的样品,加上旋转样品台,保证了均匀沉积。这种方式不需要特殊的靶面,而用标准标即可。
多靶系统在半导体晶圆工业尤为适用。它使用涡轮分子泵,前级为旋转机械泵。集成的仪器面板及即插即用的电子学zei大的“up-time”,以及用户友好设计,保证了多学科领域的应用。
溅射参数可预设,包括气体放气电磁阀。独立的真空泵系统由仪器自动控制。它可用金作为溅射靶材,在需要预清洗或去除氧化层时,也可选用其它靶材,如铬靶。
闸门作为标准配置,这样在维持真空时即可进行溅射清洁和溅射循环。
特点:
● 配置三个靶面
● 涡轮分子泵抽气系统
● 全自动控制
● Peltier冷却溅射头
● 精细涂层(0.5nm Cr粒子)
● 可倾斜的特殊旋转台作为标准配置
● 薄膜沉积(典型为5nm)
● 直径为300mm腔室
● 可选双溅射头

优点:
● 可对大样品进行镀膜,如:8英寸晶圆
● 可溅射易氧化金属的精细颗粒,如:铬或铱
● 易操作
● 无需水冷却
● 超高分辨率,可复制涂层
● 适应各种样品
● 重复膜厚沉积
● 样品容易装载和卸载,包括8英寸晶圆
● 不需要打开真空即可进行两种金属顺序涂层

技术规格:
仪器尺寸:450mm W x 500mm D x 300mm H (总高 630mm)
工作腔室:硼硅酸盐玻璃 300mm Dia. x 20mm H
安全钟罩:聚碳酸酯
重量:42公斤
靶:54 mm 直径 x 0.3mm 厚x 3(铬作为标配靶材)
旋转样品台:可调的6 至 8 英寸晶圆尺寸,到靶距离60mm
真空范围:ATM-1x10-5 mbar
沉积电流范围:0-450mA
沉积速率:0-15nm/分
溅射定时: 0-4 分钟
电源:230 伏 50Hz(包括泵zei大电流为8安培)
115 伏 60Hz(包括泵zei大电流为16安培)
Services Argon - Nominal 10 psi;
Nitrogen- Nominal 10 psi (Argon may be used as common gas)
真空泵:No 2. 泵complete with Vac. Hose & Oil Mist Filter 35L/Min 2m3/Hr

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注:该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案,不可用于临床诊断或治疗等相关用途

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