K950X 高真空蒸镀仪

仪器简介：
K950X高真空蒸镀仪在使用碳棒蒸镀时可给出连续的碳膜，并且使用涡轮分子泵时无污染。它可用于TEM和X-Ray分析中的覆膜，以及SEM中的导电涂层。
在厚度为2nm (20埃)或更厚时膜是连续的。zei通常的沉积形式是加热碳或石墨棒。棒具有特定的形状以达到zei大电流密度，使得它具有足够的温度来引起蒸发。基于这点，出现了细小的、亮的、热的碳颗粒。此系统需要用扩散泵或涡轮分子泵达到1x10-4 mbar或更高的真空度。
涡轮分子泵在K950X中作为标准配置，此泵作为机械真空泵的后级泵，真空为全自动控制，真空度优于1x10-5 mbar。可进行预热及除气控制，同时用瞬时蒸发开关使脉冲蒸发在用户控制下进行。
标准的旋转样品台可进行倾斜调节，非常容易适应各种样品座。可选的样品台具有特殊的凹槽，可放置标准的载玻片，这在“石棉分析”需要镀碳层时尤为有利。
碳棒头在仪器中作为标准件。这是一个“快速释放头”，使用户在选择金属蒸发附件、碳丝及光阑清洗头时可方便地更换。放气系统具有互锁装置，避免样品受到干扰。涡轮分子泵可安装在任何轴上，并且可安全地“关闭”直接通大气。
优点
● 容易操作
● 均匀的样品涂层
● 方便多用户操作
● 可用于蒸碳及蒸镀金属
● 在排气过程中可防止样品损坏
● 碳棒或碳丝蒸发

技术参数：
仪器尺寸：450mm W x 350mm D x 175mm H (Overall height with Work Chamber 750mm) 重量：28Kg
工作腔室：硼硅酸盐玻璃165mm Dia x 125mm H
安全钟罩：聚碳酸酯
铝机座：110mm Dia x 115mm H
碳 源：直径3.2mm碳棒
旋转样品台：直径为60 mm，倾斜0-90o
到电极距离为110mm 到 130mm
真空计范围：ATM - 1x10-5 mbar
操作真空：1x10-2 to 1x10-5 mbar
安培计：0-50 Amps
低电压选择：0-5V-15V-25V
除气电流：0-25 Amps
涡轮分子泵：50L/Second
Services -Argon - Nominal 4psi. Rotary Backing Pump -Two Stage Vacuum Pump No. 2, 35L/Min complete with Vacuum Hose & Oil Mist Filter. 2m3/Hr
电源：230V 50Hz (包括泵zei大电流8 安培)；115V 60Hz(包括泵zei大电流16 安培)

主要特点：
特点
● 全自动抽气系统
● 旋转样品台
● 菜单驱动式“用户”键盘输入
● 快速释放头方便选择不同的头
● 约束的排气控制
● 涡轮分子泵抽真空

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途