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英国Emitech牌K575X/K575D高真空离子溅射仪

参考报价: 面议 型号: K575X/K575D
品牌: 暂无 产地: 暂无
关注度: 480 信息完整度:
样本: 典型用户: 暂无
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AI问答
可以做哪些实验,检测什么? 可以用哪些耗材和试剂?
仪器简介:

K575X使用“涡轮”泵,前级为旋转机械泵,整个抽真空过程为自动控制。
真空度可调整,以适应铬或其它易氧化金属,以及金靶等不同材料要求,定时器可设置成不同的溅射时间。
本系统装配了磁控管靶,靶面直径为54 mm,可快速更换靶材。
溅射头用Peltier制冷,可得到高性能、精细颗粒的涂层(无需水冷却)。
溅射时参数可预设,包括气体放气电磁阀。
K575D(双头)其它与K575X相同,只是具有两个溅射头。在进行特殊涂层的应用时,不需要打开真空即可进行两层沉积溅镀。
注:K575D技术规格与K575X相同,但它有双头。K575X具有peltier制冷,对于比较厚的沉积,通常用K575D(双头)单元。

优点
● 可溅射易氧化金属精细颗粒,如:铬(Cr)或铱(Ir)
● 应用范围广,除了可选溅射常用金属靶材如:金银铂钯铜锡铝镁铁钴镍铬钛钼钨铱钽等单质纯金属靶材之外,还可选配金钯合金靶、铂钯合金靶、碳靶以及ITO(氧化铟锡)靶等特殊靶材
● 易操作
● 无需水冷却
● 超高分辨率,可复制涂层
● 适应各种样品
● 重复膜厚沉积
● 样品容易装载和卸载
● 不需要打开真空即可进行顺序涂层
● 沉积厚度可预设



技术参数:

仪器尺寸:450mm W x 350mm D x 175mm H
工作腔室:硼硅酸盐玻璃 165mm Dia x 125mm H
安全钟罩:聚碳酸酯
基座: 110 mm直径 x 115mm高
重量:42公斤
靶:54 mm 直径 x 0.2mm 厚(铬作为标准靶材)
样品台:50mm直径,具有倾斜功能的旋转样品台
操作真空:1 x 10-2 mbar到 1 x 10-4 mbar
溅射电流:0-150mA
沉积速率:0-20nm/分
溅射定时: 0-4 分钟
涡轮分子泵:60 litres/Second (极限真空 1x10-8 mbar)
Services - Argon - Nominal 10 psi;
Nitrogen- Nominal 10 psi (Argon may be used as common gas)
真空泵:No 2. 泵complete with Vac. Hose & Oil Mist Filter 35L/Min 2m3/Hr
电源:230伏/50Hz(包括泵zei大电流为6安培)



主要特点:

● 全自动控制
● Peltier冷却溅射头
● 精细镀层(0.5nm Cr粒子)
● 可倾斜的特殊旋转台作为标准配置
● 薄膜沉积(典型为5nm)
● 直径为165mm腔室
● 可选双溅射头
● 可接膜厚测控仪

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