仪器简介：
K975X涡轮蒸镀仪是一个多用途系统，它具有灵活性和模块化扩展功能，以适应不同的样品制备。
它可从蒸篮和坩锅进行碳蒸发、金属蒸发并且可选溅射附件。
K975X可应用一系列成熟技术，包括镀碳及TEM覆形，碳/金属蒸发、低角度Shadowing和通过使用双源蒸发进行顺序涂层，可选的溅射镀膜附件能适用于各种靶材。
通过使用微处理控制器，更增强了系统的灵活性，用户很容易附加各种可选件，但是这些“缺省”都是经过优化操作设计，使得全自动和手动操作均可实现zei佳操作。
独特的抽屉式样品装载系统使用户方便放入各种样品，铰链式顶盖结构很容易达到系统其它区域。
涡轮分子泵安装在系统外部，可方便安装及更换，它的前级真空为旋转真空泵。 整个抽气过程为全自动控制，达到高真空后进行蒸发。本仪器为台式，可方便地进行使用控制，使用中的疏忽也不易造成损坏。

K975S半导体晶圆蒸镀仪
K975S基于K975X，但是它具有特殊的装载锁定门，可允许放入8英寸（200mm）晶圆镀碳，应用于FIB。

优点
● 容易操作
● 使用灵活
● 可靠的碳蒸发
● 方便的样品装载及卸载
● 灵活的操作，可选择碳及金属蒸发源
● 在排气过程中可防止样品损坏
● 系统灵活性强
● 很容易测量金属或碳沉积膜厚

技术参数：
仪器尺寸：450mm W x 500mm D x 300mm H
工作腔室：硼硅酸盐玻璃，带有铰链式顶盖。250mm Dia x 300mm H（样品可达直径200 mm即8"）
安全钟罩：聚碳酸酯，维护时工作腔室很容易移开
重量：65Kg
碳枪：高度可调，倾斜0-20o ，使用直径6.15mm碳棒
涡轮分子泵：100L/Second为标准配置，可选各种尺寸
真空计范围：ATM - 1x10-7mbar
工作真空达到时间：15分钟内
操作真空：10-5 mbar量级（可选液氮冷阱）
蒸发源（脉冲或可变控制）：四种模式可选，低电压
a.c. V, 5V, 15V,25V @ 25 amps. 7V @100 amps
样品台：0-45o可倾斜
旋转样品台（可选）：直径60mm，倾斜0-45o，具有
15rpm 到 45rpm可变速度控制
Services

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途