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工商注册信息已核实!参考报价: | 面议 | 型号: | 37DL PLUS |
品牌: | 暂无 | 产地: | 暂无 |
关注度: | 30 | 信息完整度: | |
样本: | 典型用户: | 暂无 |
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双晶片测量方式:从激励脉冲到第一个回波之间的精确延时 | ||||||
透过涂层测量:利用一次背反射回波(使用D7906-SM 和 D7908 探头),测量涂层厚度和真实金属厚度。 | ||||||
透过漆层回波对回波:消除漆层或涂层,在两个连续背反射回波之间的时间间隔。 | ||||||
单晶片测量模式: 模式1:测量激励脉冲和第一个背反射回波之间的时间间隔。 模式2:测量在激励脉冲之后的第一个界面回波与第一个背反射回波之间的时间间隔。使用延迟线或水浸式探头。 模式3:测量在激励脉冲之后,位于第一个界面回波之后的相邻背反射回波之间的时间间隔。使用延迟线或水 | ||||||
浸式探头 氧化皮/沉积物测量功能(选择项):测量金属基底厚度和管子内壁氧化皮沉积物的厚度。 | ||||||
氧化皮沉积物的厚度范围: M2017: 0.010 - 0.050英寸 (0.25 - 1.25 毫米) M2091: 0.006 - 0.050英寸 (0.15 - 1.25 毫米) | ||||||
厚度范围:: 0.003 - 25.000 英寸 (0.080 - 635.00毫米), 取决于材料、探头、表面条件、温度和设置选择。 | ||||||
材料速度速率范围: 0.020 - 0.551 英寸/微秒 (0.508 - 13.998 毫米/微秒) | ||||||
显示精度,任选:
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