膜厚仪

仪器简介：

膜厚仪适用于半导体，FPD，太阳能电池（ＡＲＣ）、纳米技术，电子材料及特殊薄膜等的膜厚及其相关光学参数的测量。

目前该产品已广泛应用于半导体、平板显示（ＴＦＴ－ＬＣＤ，ＯＬＥＤ），聚合物、化学材料、太阳能电池、纳米薄膜材料等的企业，研发实验室，高校研究所等。

技术参数：

－检测内容：薄膜厚度，ｎ，ｋ，反射率　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　                                 　－波长范围：３８０～１０００ｎｍ（紫外，近红外，红外可选）　　　　　　　　　　　　　　　　                             －样品尺寸：4"~12" ( 更大样品尺寸可订制）
－测量范围及检测膜层： 1Å~ 50㎛ （up to 10层）
－光斑尺寸： 40㎛/20㎛/10um、4㎛(多选)
－测量速度： <1sec./site
－重复性：+/-1A

主要特点：

－易于操作　＆　快速检测

－非接触式、非破坏

－高重复性

－可实时检测

－Ｘ－，Ｙ－，Ｚ－自动ｍａｐｐｉｎｇ（可选）

根据客户需要：

可增加自动聚焦、ｍａｐｐｉｎｇ、３Ｄ，透过率模块，微小光斑，订制各种尺寸样品台。。。。

膜厚仪信息由南京伯奢咏怀电子科技有限公司为您提供，如您想了解更多关于膜厚仪报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。

注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途