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布鲁克携新产品出席2021 SEMICON China

发布时间: 2021-03-15 08:56:04 来源:布鲁克纳米表面仪器
2021年Semicon China

上海新国际博览中心E7,7146展位

SEMICON China 2021将于3月17日-19日在上海浦东新国际博览中心举行。作为中国半导体产业高速发展的见证者和促进者,SEMICON China自创办以来,得到了全球性的行业关注,已成为中国首要的半导体行业盛事之一。

本次大会上, Bruker 纳米表面仪器部将在展台E7 7164为大家展出集成纳米力学、电学、电化学测量方法的最新一代原子力显微镜 Dimension XR(包括具有大样品台的Dimension IconXR);用于表面三维形貌及粗糙度快速测量分析的三维非接触式光学轮廓仪ContourX-500,  用于材料摩擦磨损、润滑测试及涂层结合力测试的摩擦磨损测试仪UMT-Tribolab 以及用于表征纳米尺度表面的机械性能、摩擦磨损和薄膜结合力的纳米压痕仪TI980等四台设备。

同时,多位来自布鲁克研发部门以及应用部门的资深专家将详细介绍我们的产品在导体、LED、太阳能、触摸屏、通信、材料、化学、生命科学、物理以及数据存储等多领域的应用案例。



我们将首次尝试邀请专家进行现场报告。3月17-19号每天上午10点至下午16点在E7 7146 展位现场进行巡回报告。在这些讲座当中,我们将讨论布鲁克三维光学显微镜(基于白光干涉原理)测量表面结构的强大功能,展示如何通过非接触式测量,快速、准确地对包括CMP后缺陷快速检查、先进封装(RDL)、引线键合和PCB等半导体芯片的封装工艺进行监控的案例。

我们还将介绍布鲁克原子力显微镜的测量技术在新型半导体材料,半导体集成工艺控制以及失效分析领域的表征应用。我们将结合在诸如GaN, SiC等材料中的具体实例,来探讨原子力显微镜在微纳尺度上形貌和电学性质表征对于新型半导体材料开发、器件制程控制,在线工艺测试和失效分析的案例来介绍仪器在具体哪一个工艺工程, 以及哪一种分析方法适合的哪一个方面做详细的阐述。 

#报告题目主讲人

1

布鲁克三维光学显微镜在半导体前道工艺、后道封装和PCB等制程中的应用案例分析与讨论

黄鹤   

博士

2

布鲁克原子力显微镜在新型半导体材料中的应用

王书瑞

3

布鲁克XRDI(XRT)技术在缺陷成相与晶圆破裂方向的应用

渠波    博士

4

自动化原子力显微镜技术在硅基IC制程中的应用

孙佩玲博士

5

 X-Ray计量技术在硅基半导体薄膜制程中的应用 

向前

6

布鲁克原子力显微镜, 光学轮廓仪在半导体工艺过程中的应用

付坤武博士

同时,为回馈广大用户长久以来的支持和帮助,我们将于3月17-19号期间在展位E7 7146现场展开抽奖活动,500份精美礼品(包括膳魔师保温杯,马克杯,蓝牙音响,入耳式耳机,64G U盘以及多功能数据线)等您来取,中奖率高,欢迎莅临,仅限现场抽奖和领取。


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