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Mie理论在静态光散射粒度测量的应用下限研
发布时间：
2021-01-12 15:30
来源：
济南微纳颗粒仪器股份有限公司
| 领域： | 纳米材料 | ||
| 样品： | 乳液、干粉 | 项目： | Mie理论在静态光散射粒度测量的应用下限研 |
| 参考： | 粉体技术 | ||
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Mie理论在静态光散射粒度测量的应用下限研 |
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静态光散射粒度分析，主要是依据不同大小颗粒的散射能量的空间分布(散射谱)的差异确定颗粒大小。如果散射谱的空间分布差异消失，则静态光散射将不能测量颗粒粒度，应代之以动态光散射或其他分析技术。Mie散射理论是颗粒光散射的基础理论，因此颗粒测量下限的确定，实质上决定于M ie散射理论能谱的研究。本文以M ie理论为依据，通过理论分析和计算机模拟，确定测量下限的参考范围。
