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电子束刻蚀设备
JEBG
JEBG 系列大功率电子枪・电源JEBG系列大功率电子枪是用来在真空中蒸发或熔解金属及氧化物的大功率电子束发生源,能在宽幅塑料及大面积玻璃基板上持续、高速率地镀......
BS-EBM系列多用途电子束熔炼炉
BS-EBM系列多用途电子束熔炼炉以电子束为热源使用各种熔解用坩埚,对高融点活性金属进行熔解/精炼、制备铸锭的电子束熔炼炉。 适合研究开发及少量生产、省空间设计......
TP-99010FDR
TP-99010FDR 粉末供应装置用气体通过管道定量输送粉末的送粉器。 该台式送粉器能稳定地供给亚微米~100μm左右的微细颗粒。 通过载气输送微细粉末。 还......
TP-99010FDR
TP-99010FDR 粉末供应装置用气体通过管道定量输送粉末的送粉器。产品特点:用气体通过管道定量输送粉末的送粉器。该台式送粉器能稳定地供给亚微米~100μm......
TP
TP 系列 高频感应等离子体发生器通过高频感应加热产生大约1万度的热等离子体,经过物理/化学反应过程,能合成纳米颗粒及厚膜(镀膜)。产品特点:通过高频感应加热产......
BS-04
BS-04 系列 旋转式传感器晶振膜厚控制仪的传感器,可装载6个或12个晶振片 。The BS-04 series rotary sensor is used ......
RF-340
RF-340 系列匹配网络自动整合装置和产生等离子体的13.56MHz高频电源组合,与负载进行匹配的自动调整装置 (匹配箱 + 控制器) 。Features特点......
RF-120系列高频电源
RF-120系列高频电源是溅射、刻蚀、CVD、离子镀等薄膜制备/加工使用的、用于生成等离子体的13.56MHz高频电源(RF电源)。特性:A high-freq......
BS-80020CPPS等离子体源
BS-80020CPPS等离子体源BS-80020CPPS是用于辅助低温(100℃以下等)下塑料基板和胶片成膜的等离子体源。The plasma source ......
BS-80011BPG产生高密度内置型等离子源
BS-80011BPG产生高密度等离子体的内置型等离子体枪安装在真空室内产生高密度等离子体的等离子体源。利用和真空蒸镀结合的等离子体辅助沉积技术(离子镀),能提......
JEBG系列大功率电子枪
JEBG系列大功率电子枪/电源JEBG系列大功率电子枪是在真空中蒸发或熔解金属及氧化物的大功率电子束发生源,能在不断输送中的宽幅塑料和大面积玻璃基板上高速率地连......
BS/JST系列电子枪/电子束蒸镀的高压电源
BS/JST系列电子枪/电源和偏转型电子枪结合使用,用作电子束蒸镀的高压电源。产品特点:和偏转型电子枪结合使用,用作电子束蒸镀的高压电源。BS-720xxICE......
BS/JEBG/EBG
BS/JEBG/EBG 系列电子枪用于光学薄膜及电极膜等各种薄膜形成的电子束蒸镀用电子枪/电源。产品特点:用于光学薄膜及电极膜等各种薄膜形成的电子束蒸镀用电子枪......
JBX-8100FS
JBX-8100FS 圆形电子束光刻系统zei新高精密JBX-8100FS圆形电子束光刻系统,通过全方位的设计优化,实现更简便的操作,更快的刻写速度,更小的占地......
JBX-3050MV
JBX-3050MV 电子束光刻系统JBX-3050MV 是用于制作45nm~32nm 节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻......
JBX-3200MV电子束光刻系统
JBX-3200MV 电子束光刻系统JBX-3200MV是用于制作28nm~22/20nm节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光......
JBX-9500FS电子束光刻系统
JBX-9500FS 电子束光刻系统JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统,兼具世界zei高水平的产出量和定位精度,zei大能容纳300mmφ......
JBX-6300FS
JBX-6300FS 电子束光刻系统JBX-6300FS的电子光学系统在100kV的加速电压下能自动调整直径为(计算值)2.1nm的电子束,简便地描画出线宽在8......
日本电子JBX-6300FS
产品规格:电子枪描画方式加速电压样品尺寸样品尺寸样品台移动范围套刻精度场拼接精度扫描速度ZrO/W 肖特基型描画方式25kV (选配), 50kV, 100kV......
日本电子JBX-6300FS
产品特点:本公司独自的自动校正功能(自动补偿功能),实现了可信赖的长时间稳定地描画。自动补偿可以根据时间(任意的)、场和图形进行分别设定,非常适合于周末及休假等......
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