美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 40

上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 考夫曼离子源 KDC 40. 离子束可选聚焦/ 平行/ 散射. 适用于已知的所有离子源应用.

离子束流: >100 mA; 离子动能: 100-1200 V; 中和器: 灯丝, 流量 (Typical flow): 2-10 sccm.

加热灯丝产生电子, 增强设计输出高质量, 稳定的电子流.

离子源采用模块化设计, 方便清洁/ 保养/ 维修/ 安装.

无需水冷, 降低安装要求并排除腔体漏水的几率, 双阴极设计.

伯东美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 技术参数：

伯东 KRI 考夫曼离子源 KDC 40 应用领域：

1. 溅镀和蒸发镀膜 PC

2. 辅助镀膜(光学镀膜)IBAD

3. 表面改性, 激活 SM

4. 离子溅射沉积和多层结构 IBSD

5. 离子蚀刻 IBE

伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国 HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途