Hakuto 全自动离子刻蚀机 MEL3100用于蚀刻覆铜板

发布时间： 2020-12-07 16:17 来源：伯东企业（上海）有限公司

某印制板线路板生产工厂采用伯东 Hakuto 全自动离子刻蚀机 MEL3100 将覆铜板上不需要的铜蚀刻掉, 将需要保留的铜保留下来.

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Hakuto 全自动离子刻蚀机 MEL3100 技术参数:

Model	MEL3100
Wafer size	3"～6"
Wafer per batch	1 wafer
Cassette No.	25 wafers
Cassette Q'ty	1pc.
Throughput	10 (wafer/hr) *1
Pressure Ultimate	8×10-5 (Pa) *2
Pressure Process	2×10-2 (Pa) *2
Etching Rate	>10 (nm/min)@SiO2 *3
Etching Uniformity	±5%@132mm (6") *3
Wafer surface temp.	<100℃ *3
Stage rotating	1～20 (rpm) ±5%
Stage tilting	±90°±0.5°
*1: Estimated process time 5min
*2: No wafer on stege / process chamber
*3: Depending on process

该工厂采用 Hakuto 全自动离子刻蚀机 MEL 3100 的主要原因:

1. 所有流程全自动减少人工操作, 从而保证了产品的无差错、高稳定性和高质量

2. 采用高质量的蚀刻考夫曼离子源, 保证良好的均匀性和高蚀刻率

3. 占用空间小

4. 控制单元系统提供操作通过触摸屏/ 10.4英寸, 数据记录可以显示在屏幕上

5. 高冷却效果

6. 良好的重复性和再现性的旋转和倾斜阶段具有良好的可重复性利用脉冲电动机

7. 快速响应时间和本地服务能力, 减少停机时间的工具

工厂采用 Hakuto 全自动离子刻蚀机 MEL 3100 运行结果：

1. 提高蚀刻过程的均匀性

2. 提高精密程度, 提高产线的生产工艺能力

3. 提高产线的生产率, 降低劳动强度, 保证生产的连续性

若您需要进一步的了解详细产品信息或讨论 , 请参考以下联络方式 :

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离子刻蚀机