今晚报告 | 通过大束流等离子FIB-SEM获得高通量且无伪影的样品表征

大家熟知的Wiley Analytical Science将举办第四届WAS线上春季研讨会，为期2周，将汇集全球观众和来自生物分析化学，药物研究，材料科学，实验室自动化和相关学科领域的专家，进行精彩演讲。

TESCAN有幸受邀作技术报告。

我们都知道，使用 FIB-SEM制备横截面的标准做法是：首先使用大束流快速去除材料，然后降低 FIB 束流以获得更好的离子束束斑，最终获得质量更好的截面。

然而，降低截面抛光的最大束流会使制备过程更长。对于几十微米的小横截面，这种方法是可以接受的。但是，随着抛光横截面积的增大，分析时间会大幅增加；因此，该方法不适用于制备数百微米大小的横截面。为了克服大横截面的这一限制，引入等离子 FIB，相比传统 Ga FIB-SEM，它可实现更大的束流。

等离子 FIB-SEM 为样品表征提供了几个优势：

• 它的高束流离子束能够实现高的材料溅射速率，从而能够有效地制备大沟槽或横截面；

  
  

• 等离子 FIB 还可用于大面积抛光，更显著地体现样品特征并提供关于样品在结构、成分相关联的详细信息。这有助于更完整的揭示材料分布，获得更详尽的统计信息，由此将微观尺度与纳米尺度样品表征联系起来。

采用多项技术用于改进大束流等离子FIB实现更大尺度的材料表征。

即刻扫描下方二维码，听3D材料表征分析专家：Martin Slama 带给我们的精彩介绍。