ETD-80AF型热蒸发镀膜仪把待镀膜的基片或......
ETD-2000MH型磁控等离子溅射仪。 磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下，在飞向基片......
ETD-2000III型三靶离子溅射仪是依据二极（DC）直流溅射原理设计而成的最简单、可靠、经济的镀膜设备。本机......
ETD-650M型磁控溅射仪是我公司研制开发的一款经济实用的袖珍型高真空磁控溅射设备，更适合各科研及教育机构实验室的中试验需求。系统主要由溅射真空室、永磁磁控溅......
SD-160型离子溅射仪是采用二级（DC）直流溅射原理设计而成的离子溅射镀......
ETD-2000C型离子溅射仪在ETD-2000离子溅射仪基础上，增加了热蒸发附件，可以蒸发碳丝，......
ETD-2000 型离子溅射仪外观沉稳大气采用真空自动控制和真空保护电路，使操作和应用更加安全可靠。为扩大应用领域，可同时手动调整溅射仪的电离电流或手动调整其真......
ETD-3000型离子溅射仪外观亮丽做工精致，旋钮式定时器档位清晰，手感舒适；特殊定制的真空指示和电流指示表头沉稳大气，具有欧洲典雅风范......
ETD-900M 型离子溅射仪外观亮丽做工精致磁控溅射是物理气相沉积的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜......
ETD-900C 型离子溅射仪外观亮丽做工精致，是北京意力博通技术发展有限公司针对SEM用户研制生产的一款既能溅射金、银、......
ETD-800 型全自动等离子溅射仪外观亮丽做工精致，机箱大小仅有310mm x 260mm x 115mm。......
ETD-900 型离子溅射仪外观亮丽，做工精致，旋钮式定时器档位清晰，手感舒适；特殊定制的真空指示和电流指示表头沉稳大气，具有欧洲典雅风......
ETD-800C型热蒸发镀膜仪把待镀膜的基片或工件置于真空室内，通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积与基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺过程。配有高位定性的飞......
仪器简介：ETD-2000/3000型离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的，zei简单、可靠、经济的镀膜设备。 适用于电镜实验室的扫描电子显微镜......
仪器简介：ETD-2000 Ⅲ 型离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的，zei简单、可靠、经济的镀膜设备。他的特别之处是在一个真空室内设计安装了......
仪器简介：ETD-2000C 溅射蒸碳仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的，zei简单、可靠、经济的镀膜设备。同时增加了热蒸发附件，具有溅射和蒸发两种功......
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