ETD-2000 Ⅲ 型离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的，zei简单、可靠、经济的镀膜设备。他的特别之处是在一个真空室内设计安装了三个靶。旋转样品台，可以依次在同一样品上涂覆三种材料。适用于实验室的各种复合膜样品制备，及非导体材料实验电极制作。

配置参数如下： 

- 靶（上部电极）：直径：45mm，厚度：0.12mm
- 真空样品室： 直径：160mm，高：120mm
- 溅射面积： Ф45mm，三区域
- 真空指示表： zei高真空度：≤ 4X10-2 mbar
- 离子电流表： zei大电流：50mA
- 定时器： zei长时间：900S
- 微型真空气阀： 可连接φ3mm软管
- 可通入气体： 多种
- zei高电压： -1600（-3000）DCV
- 机械泵： 2L/S

特点： 

1. 配置有样品溅射室真空表和溅射电流表，用以指示、监控仪器状态；
2. 溅射电流调整控制器、微型真空气阀。在工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及任意选择所需要的电离气体，获得zei佳镀膜效果；
3. 特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈，可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟罩“崩边”现象；
4. 陶瓷密封高压头比通常采用橡胶密封的更经久耐用；
5. 根据电场中气体电离特性，采用大容量样品溅射真空室和相应面积溅射靶，使溅射镀层更均匀纯净。

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途