ETD-2000C 溅射蒸碳仪

ETD-2000C 溅射蒸碳仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的，zei简单、可靠、经济的镀膜设备。同时增加了热蒸发附件，具有溅射和蒸发两种功能。 

满足电镜实验室的扫描电子显微镜（SEM）样品制备和非导体材料实验电极制作。

配置参数如下： 

- 仪器尺寸 ： 400mm×300mm×400mm（L×W×H）
- 真空样品室： 硼硅酸盐玻璃 160mm×110mm（D×H）
- 靶（上部电极）： 50mm×0.1mm（D×H）
- 样品台： 50mm (D)
- 操作真空： 4×10-1mbar至2×10-2mbar
- 工作电压： 0-1600V (DC)可调
- 溅射电流： 0-50mA
- 溅射定时： 1-9999S
- 蒸碳电流 0-10A(AC)
- 真空泵： 4升两级机械旋转泵（极限真空2×10-2mbar）

在 ETD-2000/3000 离子溅射仪基础上，增加了热蒸发附件，可以蒸发碳丝，具有溅射和蒸发两种功能。因此扩展了应用范围，特别适用于扫描电镜实验室样品制备。

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途