光学表面缺陷分析仪

发布时间：2023年10月

一、简介

Lumina AT1光学表面缺陷分析仪可对玻璃、半导体及光电子材料进行表面检测。Lumina AT1既能够检测SiC、GaN、蓝宝石和玻璃等透明材料，又能对Si、砷化镓、磷化铟等不透明基板进行检测，其价格优势使其成为适合于研发/小批量生产过程中品质管理及良率改善的有力工具。

Lumina AT1结合散射测量、椭圆偏光、反射测量与表面斜率等基本原理，以非破环性方式对Wafer表面的残留异物，表面与表面下缺陷，形状变化和薄膜厚度的均匀性进行检测。

1.偏振通道用于薄膜、划痕和应力点；

2.坡度通道用于凹坑、凸起；

3.反射通道用于粗糙表面的颗粒；

4.暗场通道用于微粒和划痕；

二、 功能

l 主要功能

1. 缺陷检测与分类

2. 缺陷分析

3. 薄膜均一性测量

4. 表面粗糙度测量

5. 薄膜应力检测

l 技术特点

1.透明、半透明和不透明的材料均可测量，比如硅、化合物半导体或金属基底；

2.实现亚纳米的薄膜涂层、纳米颗粒、划痕、凹坑、凸起、应力点和其他缺陷的全表面扫描和成像；

3.150mm晶圆全表面扫描的扫描时间为3分钟，50x50mm样品30秒内可完成扫描并显示结果；

4.高抗震性能，系统不旋转，形状无关，可容纳非圆形和易碎的基底材料；

5.高达300x300mm的扫描区域；可定位缺陷，以便进一步分析；技术能力

三、应用案例

1. 透明/非透明材质表面缺陷检测

2. MOCVD外延生长成膜缺陷管控

3. PR膜厚均一性评价

4. Clean制程清洗效果评价

5. Wafer在CMP后表面缺陷分析

6. 多个应用领域，如AR/VR、Glass、光掩模版、蓝宝石、Si wafer等

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途