小型台式无掩膜光刻机电子束刻蚀Quantum Design 可检测Cr2S3(Quantum Design)

Quantum Design电子束刻蚀Microwriter ML3参考多项行业标准High-Performance Wafer-Scale MoS2 Transistors toward Practical Application. Small 2018, 1803465。完成MoS2、Cr2S3的检测。可以用在电子/半导体行业领域中的无掩膜光刻直写项目。

小型台式无掩膜光刻系统

小型台式无掩膜光刻系统Microwriter ML3是英国Durham Magneto Optics公司专为实验室设计开发，为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。

传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩膜板需要由专业供应商提供，但是在研发环境中，掩膜板的设计通常需要经常改变。无掩膜光刻技术通过以软件设计电子掩膜板 的方法，克服了这一问题。与通过物理掩膜板进行光照的传统工艺不同，激光直写是通过电脑控制一系列激光脉冲的开关，在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案。   Microwriter ML3 是一款多功能激光直写光刻系统，具有结构小巧紧凑(70cm X 70cm X 70cm)，无掩膜直写系统的灵活性，还拥有高直写速度，高分辨率的特点。采用集成化设计，全自动控制，可靠性高，操作简便。适用于各种实验室桌面。

产品特点  

产品参数  

应用实例 

小型台式无掩膜光刻机电子束刻蚀Quantum Design 可检测Cr2S3,Microwriter ML3

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