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Exploiter原子层沉积系统(HV集成传送反应腔)是一款具有自主知识产权的新一代自动化高速ALD生产系统,适用于半导体、柔性显示、光学薄膜、太阳能电池及锂电池等领域的工业批量化生产。
1、产品特色
(1)传输管路的优化设计,有效地避免管路堵塞及交叉污染问题
(2)工业化级别标准集成:PLC+工控机+触摸屏
(3)软件操作界面友好,可真正实现“一键沉积”
(4)完善全面的安全互锁方案
(5)实时监测镀膜工艺
2、可制备的材料种类
(1)氧化物:Al2O3、TiO2、SiO2、HfO2、Ta2O5、ZrO2、ZnO、SnO2、La2O3、Lu2O3等
(2)金属材料及合金:Fe、Co、Ni、Cu、Ag、Au、Ru、Pt、Ag、Au等
(3)二元/多元材料:AlN、HfON、LaAlO3、MnN、WN等
(4)纳米层压材料:(Al2O3/ZrO2)n等
3、技术指标
(1)本底真空:<5.0×10-3torr,高性能机械泵(可定制其它款型)
(2)真空过渡腔 + Φ100mm基片真空反应腔
(3)9路进气口:6路前驱体源 + 3路反应气源
(4)沉积温度:室温-500℃(可定制其他温度)
(5)前驱体管道温度:室温-120℃(可定制其他温度)
(6)源瓶加热温度:室温-120℃(可定制其他温度)
SUPERALD Exploiter原子层沉积(ALD)系统,E100HV Plus 过渡腔和反应腔+ 9路进气口
SUPERALD Exploiter原子层沉积(ALD)系统信息由深圳市原速科技有限公司为您提供,如您想了解更多关于SUPERALD Exploiter原子层沉积(ALD)系统报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。
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