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仪器简介: PLD是将脉冲激光透过合成石英窗导入真空腔内照射到成膜靶上,靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态,然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。PLD方法可以获得拥有热力学理论上准稳定状态的组成和构造的人工合成新材料。 我们PLD系统拥有zei好的性能价比,具有以下优异的性能:
感谢河南师范大学国家重点实验室, 清华大学先进材料重点实验室,北京大学微电子系 使用此研究级高性能的PLD系统, 望我们高性能价格比的PLD为广大科研人员提供帮助!! 具体配置: 一, 超高真空腔体 二, 分子泵 三, 激光扫描系统 四, 衬底加热铂金片,zei高可达1200度 五,基板加热构造设计 六, 基板加热电源 七, Rheed 八, Rheed软件 九, 多靶位 ,标准配置6个1英寸靶 十,Load-Lock样品传输腔体 技术参数: 一, 靶。 数量6个,大小1-2英寸,被激光照射时可自动旋转,靶的选择可通过步进电机控制。 二, 基板。 采用适合于氧气环境铂金加热片,大小2英寸,加热温度可达1200摄氏度,温度差<3%,加热时基板可旋转,工作环境zei大压力是300mtorr。 三, 基板加热电源。 四, 超高真空成膜室腔体。 不锈钢sus304材质,内表面电解抛光,本底真空度<5e-8 pa。 五, 样品传输室。 不锈钢sus304材质,内表面电解抛光,本底真空度<5e-5 pa。 六, 排气系统。 分子泵和干式机械泵,进口知名品牌。 七, 阀门。 采用超高真空挡板阀。 八, 真空检测。 真空计采用进口产品 九, 气路两套。 采用气体流量计(MFC)。 十, 薄膜成长监控系统。 采用扫描型Rheed(可差分抽气)。 十一, 监控软件系统。 基板温度的监控和设定,基板和靶的旋转,靶的更换。 十二, 各种电流导入及测温端子。 十三, 其它各种构造 各种超高真空位移台,磁力传输杆,超高真空法兰,超高真空密封垫圈,超高真空用波纹管等。
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