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ETD-2000/3000型离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的,zei简单、可靠、经济的镀膜设备。 适用于电镜实验室的扫描电子显微镜(SEM)样品制备,非导体材料实验电极制作。
配置参数如下: 1、靶(上部电极):金:直径:50mm,厚度:0.12mm 2、真空样品室: 直径:160mm,高:120mm 3、溅射面积: Ф50mm,zei大放置 4、真空指示表: zei高真空度:≤ 4X10-2 mbar 5、离子电流表: zei大电流:50mA(100mA) 6、定时器: zei长时间:900S 7、微型真空气阀: 可连接φ3mm软管 8、可通入气体: 多种 9、zei高电压: -1600(-3000)DCV 10、机械泵: 2L/S
特点: 1. 配置有样品溅射室真空表和溅射电流表,用以指示、监控仪器状态; 2. 溅射电流调整控制器、微型真空气阀。在工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室 压强、电离电流及任意选择所需要的电离气体,获得zei佳镀膜效果; 3. 特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈,可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟 罩“崩边”现象; 4. 陶瓷密封高压头比通常采用橡胶密封的更经久耐用; 5. 根据电场中气体电离特性,采用大容量样品溅射真空室和相应面积溅射靶,使溅射镀层更均 匀纯净。
小型离子溅射仪,ETD-2000/3000
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