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应用: -Focusing the high power pulsed laser beam to strike a target -Oxide compound deposition in oxygen atmosphere -铁磁 / 电介体 / 磁阻抗材料沉积
腔形状 : 球面型 样品尺寸 : ~ 2inch, 单片 wafer 加热温度 : Max. 850∩ 靶数量 : 4ea 吧旋转& 转数可选 Ar coated laser window (248nm, UV grade fused silica) 极限压力 : 5*10-6Torr 真空泵: TMP + 旋转泵 过程控制 : 手动
激光脉冲沉积系统(PLD),SPHERICAL
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