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TriboLab CMP 利用其前身产品 (Bruker CP-4) 超过 20 年的 CMP 领域专业知识,为业界领先的 TriboLab 平台带来了一套完整的功能。基于本套设备产生的高精度和高可重复性使得在整个 CMP 流程中能够进行高效的鉴别、检查和连续功能测试。TriboLab CMP 是市场上唯一能够提供广泛的抛光压力 (0.05-50 psi)、速度(1 至 500 rpm)、摩擦、声发射和表面温度测量的工艺开发工具,可准确、完整地描述 CMP 工艺和耗材。
布鲁克的TriboLab CMP工艺和材料表征系统是专为晶圆抛光工艺而设计,是具有可靠、灵活和高效的台式设备。
重现全尺寸晶圆抛光工艺条件,无需在生产设备上停机
提供无与伦比的测量可重复性和细节检测
允许在小样品上进行测试,比全晶圆测试节省大量成本
比市场上任何其他系统提供更多的瞬态抛光过程的参数
从接触抛光盘开始直至整个测试过程都能收集数据
通过更完整、更详细的数据实现早期流程开发决策
抛光任何平面材料,几乎能使用任何修正盘,任何抛光液,和任何抛光垫
轻松使用 100 mm 以下的小尺寸晶圆
可同时安装多个样品,测试更灵活
机械测试仪TriboLab CMP ,TriboLab CMP
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