Aston™ 过程质谱仪保护环境免受半导体有害气体排放污染(Atonarp)

Aston 过程质谱仪保护环境免受半导体有害气体排放污染
半导体和薄膜太阳能工艺使用并产生各种工艺气体和颗粒材料副产品, 有害气体必须以受控方式进行处理. 许多废料的处理受环境法规的规定，如美国 NESHAP 标准. 此规则规定的主要有害空气污染物包括但不限于五种化学品, 它们占有害空气污染物排放总量的90%以上 (盐酸 HCl, 氟化氢 HF, 乙二醇醚, 甲醇, 二甲苯)

美国环境保护局对混合空气毒物工艺通风孔 (有机和无机) 的排放限值为 14.22 PPM（按体积计算）. 监测并销毁其他 PFC (全氟化碳气体) 和硅烷 SiH4 等自燃气体.

问题
减排面临着多重挑战. 需要监测来自减排系统的环境废气, 以确保符合法规要求, 需要一款具有高灵敏度, 实时, 现场计量, 且精度达到 PPM 级的质谱分析仪. 此外, 优化减排, 要求测量进入减排系统的污染物浓度的废工艺气体, 以便在减排燃烧气体消耗量的同时调节氮气稀释, 以确保有效和高效地销毁污染物. 天然气 (甲烷) 通常用于普通燃烧洗涤减排系统中的高温热气体分解, 优化其使用可降低减排过程成本和二氧化碳排放.

上海伯东 Aston™ 质谱分析仪提供有害气体排放污染解决方案
许多减排系统是“开环”运行的, 导致天然气和氮气消耗量较高. 此外, 通常不会对减排成功的分析数据进行监控和记录, 从而使公司承担环境监管责任. 使用 Atonarp 的 Aston 等离子体质谱仪, 可以根据进入的废气浓度和测量的排放气体数据, 记录日志, 对燃烧过程进行现场优化控制, 以记录环境合规. Aston 过程质谱仪能够承受严酷的 PFC 和酸性 (如 HF 和 HCl ）气体, 并能提供低至 PPB 水平的灵敏度. 通过快速, 准确的现场计量, 实现高效的减排气体监测和废气环境合规性.

Atonarp  Aston™ 质谱分析仪技术参数

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上海伯东 : 罗先生                               台湾伯东 : 王小姐
T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
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