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ETD-2000C 溅射蒸碳仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的,zei简单、可靠、经济的镀膜设备。同时增加了热蒸发附件,具有溅射和蒸发两种功能。 满足电镜实验室的扫描电子显微镜(SEM)样品制备和非导体材料实验电极制作。
配置参数如下: - 仪器尺寸 : 400mm×300mm×400mm(L×W×H) - 真空样品室: 硼硅酸盐玻璃 160mm×110mm(D×H) - 靶(上部电极): 50mm×0.1mm(D×H) - 样品台: 50mm (D) - 操作真空: 4×10-1mbar至2×10-2mbar - 工作电压: 0-1600V (DC)可调 - 溅射电流: 0-50mA - 溅射定时: 1-9999S - 蒸碳电流 0-10A(AC) - 真空泵: 4升两级机械旋转泵(极限真空2×10-2mbar)
在 ETD-2000/3000 离子溅射仪基础上,增加了热蒸发附件,可以蒸发碳丝,具有溅射和蒸发两种功能。因此扩展了应用范围,特别适用于扫描电镜实验室样品制备。
ETD-2000C 溅射蒸碳仪,ETD-2000C
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