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仪器简介:
膜厚仪适用于半导体,FPD,太阳能电池(ARC)、纳米技术,电子材料及特殊薄膜等的膜厚及其相关光学参数的测量。
目前该产品已广泛应用于半导体、平板显示(TFT-LCD,OLED),聚合物、化学材料、太阳能电池、纳米薄膜材料等的企业,研发实验室,高校研究所等。
技术参数:
-检测内容:薄膜厚度,n,k,反射率 -波长范围:380~1000nm(紫外,近红外,红外可选) -样品尺寸:4"~12" ( 更大样品尺寸可订制) -测量范围及检测膜层: 1Å~ 50㎛ (up to 10层) -光斑尺寸: 40㎛/20㎛/10um、4㎛(多选) -测量速度: <1sec./site -重复性:+/-1A
主要特点:
-易于操作 & 快速检测
-非接触式、非破坏
-高重复性
-可实时检测
-X-,Y-,Z-自动mapping(可选)
根据客户需要:
可增加自动聚焦、mapping、3D,透过率模块,微小光斑,订制各种尺寸样品台。。。。
膜厚仪,RSC
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