您好,欢迎您查看分析测试百科网,请问有什么帮助您的?
如果企业客服不在线,也可拨打400电话联系。或者发布求购信息
日立ArBlade 5000离子研磨系统能够实现高产量,并制备广域横截面样品。
离子研磨系统使用通过在表面上照射氩离子束引起的溅射效应来抛光样品的表面。样品预处理系统可以用于电子和先进材料等各个领域的研发和质量控制等。
与机械抛光不同,离子研磨系统处理样品而不会变形或施加机械应力。因此,用于预处理样品的离子铣削系统的应用范围不断扩大,不仅包括扫描电子显微镜(SEM),还包括原子力显微镜(SPM / AFM)等。离子铣削系统应用范围广泛,日立高新收集了用户在各种领域提供的关键性建议和改进,并将它们纳入到最 新的设计平台。
新推出的ArBlade 5000具有混合研磨功能,能够进行横截面研磨,是日立离子研磨系统的独 家标志。此功能使样品能够根据所需的目的和应用进行预处理。 ArBlade 5000还具有PLUS II离子枪技术设计。这是一种新的氩离子枪,可以实现了1mm/hr以上的截面铣削速度(日立高新的IM4000Plus型号的两倍)。新系统使用户能够在比以前更短的时间内准备横截面,包括陶瓷和金属等硬质材料,这往往需要较长的加工时间。
此外,日立高新开发了全新的宽区域横截面研磨,以实现横截面研磨,最 大研磨宽度为8mm,从而可以制备比以往更大的截面样品。通过与下一代氩离子枪的协同效应,新的ArBlade 5000可以与市场上可用的任何其他离子系统一起制备广域横截面样品。 主要特点 1.能够进行横截面和平面的混合研磨系统。 2.通过PLUS II离子枪技术设计高速氩离子枪实现1mm/hr或更高的横截面研磨速度。 3.通过使用广域横截面研磨,实现最 大宽度达8mm的广域加工。 4.基于采用LCD触摸面板的全新控制系统,增强了可操作性。
日立离子研磨系统ArBlade5000 ,ArBlade5000
日立离子研磨系统ArBlade5000 信息由柜谷科技发展(上海)有限公司 为您提供,如您想了解更多关于日立离子研磨系统ArBlade5000 报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。
日立环境多功能原子力显微镜5300E
日立全自动型原子力显微镜5500M
日立高新离子研磨装置IM4000
日立高新磁控溅射器MC1000
日立质谱检测器Chromaster 5610
日立-基因测序仪/基因分析仪-DS3000
Regulus系列 (超高分辨场发射扫描电子显微镜)
日立新型超高分辨冷场发射扫描电镜 Hitachi SU9000
群组论坛--扫描电镜之家
您可能要找:日立电镜制样日立离子研磨系统ArBlade5000 价格ArBlade5000电镜制样参数
Copyright ©2007 ANTPedia, All Rights Reserved
京ICP备07018254号 京公网安备1101085018 电信与信息服务业务经营许可证:京ICP证110310号