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PDHID对硅烷中气体杂质检测限(ppb)
H2
O2 Ar
N2
CO
CH4
CO2
C2
C3
SimHn
10
25
50
20
电子工业气体:高纯度硅烷气体杂质组份的检测
一,GC-9560-HG硅烷纯度分析氦离子气相色谱仪的应用领域:
硅烷在大规模集成电路(LSI)、超大规模集成电路(VLSI)和半导体器件制造中,用于气相外延生长、化学气相淀积等工艺(工序)。
1. 外延(生长)混合气 在半导体工业中,在仔细选择的衬底上选用化学气相淀积的方法,生长一层或多层的材料所用的气体叫做外延气体。常用的硅外延气体有二氯二氢硅、四氯化硅和硅烷等。主要用于外延硅淀积,多晶硅淀积,氧化硅膜淀积,氮化硅膜淀积,太阳能电池和其他光感受器的非晶硅膜淀积等。外延生长是一种单晶材料淀积并生长在衬底表面上的过程。
2. 化学气体淀积(CVD)用混合气 CVD是利用挥发性化合物,通过气相化学反应沉积某种单质或化合物的一种方法,即应用气相化学反应的一种成膜的方法。依据成膜种类,使用的化学气相淀积(CVD)气体也不同。
二:硅烷中微量杂质的分析一直是色谱分析的难点。
目前多数采用的热导检测器由于灵敏度有限,很难测定5ppm以下的杂质;火焰离子化检测器和氧化锆检测器是选择性的检测器,只能分析少数几种气体杂质,均不能很好的满足硅烷气体分析的基本要求。
PDHID检测器(脉冲放电氦离子检测器)是一种灵敏度极高的通用型检测器,对几乎所有无机和有机化合物均有很高的响应,特别适合高纯气体的分析,是唯一能够检测至ng/g(ppb)级的检测器。
硅烷纯度分析氦离子气相色谱仪,GC-9560-HG
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