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OTF-1200X-4-C4LVS 双管炉是 一个特殊的双管CVD系统,是专门为在金属箔上生长薄膜而设计,特别是应用在新一代能源关于柔性金属箔电极方面的研究。通过滑动炉子实现快速加热和冷却。请点击下图观看炉子的工作原理。
双石英管:外管直径100mm ,悬挂的内管直径 80. 金属箔缠绕在内管的外表面上发生CVD反应。
双管的真空密封法兰:允许反应气体通过两管之间(10mm间隙)发生反应,冷却气体直接通入内管.
四通道质量流量计控制4路气体。
配有KF25快接和波纹管的高速机械泵。
炉子底部装有滑轨:炉子可以从一端滑向另一端,从而实现快速升温和降温.
高纯 Al2O3保温材料,保证了炉膛有极好的温度均匀性.
内炉膛表面涂有美国进口的高温氧化铝涂层可以提高设备的加热效率,同时也可以延长炉膛的使用寿命
炉子底部的冷却风扇保证了热量正常对外释放
密封法兰系统全不锈钢制作。
最高温度: 1100°C
连续温度: 1000°C
加热区长度: 440mm
恒温区长度: 120mm (±1°C) @400~1100°C
选择:双温区炉可获得t 240mm 的恒温区(点击图片查看详情)
最快的加热和冷却速度跟工作温度有关, 请点击下图可以看出最快的加热和冷却速度随温度的变化而变化。
注意:( 在使用炉子之前,要校准工作温度和加热、冷却速度 )
一对 SS304不锈钢法兰,通过用两个高温“O”型圈紧密密封可获得高真空。
炉子底部装有一对滑轨
炉子可以手动从一端滑向另一端,实现快速的加热和冷却。
为了得到较快的加热速度,可以先将炉子预热,然后滑到放置样品的位置。
为了获得较快的冷却的速度,把炉子滑向另一端,同时将冷却气体通入样品所在的位置。
极限真空度: 10^-2 torr (机械泵) 10^-5 torr (分子泵)
温控仪:带超温保护和PID调节的 30 段程序控制。控温仪表操作视频
控温精度: +/-1°C
4路精密质子流量计:数字显示、气体流量自动控制.
MFC 1范围: 0~100 sccm
MFC 2范围: 0~200 sccm
MFC 3范围: 0~200 sccm
MFC 4范围: 0~500 sccm 气路: 4 路
流量精度: 0.2%
进气和出气接口: 1/4" 卡套
一个混气罐.
每路气路都有一个独立的不锈钢针阀控制。
通过控制面板上的旋钮来调节气体流量. 请看下图
MFC 面板(点击放大)
安装在移动架底部的机械泵,真空度达 10-3 Torr.
真空泵与手动挡板阀之间用KF25 快接与不锈钢波纹管连接 .
数字真空表安装在一端的法兰上. 选择: 可以配分子泵,真空度达 10-5 Torr
炉体: 550 x 380 x 520
移动架: 600x600x597
双管滑动式1200℃四通道混气CVD系统, OTF -1200X-4- C4LVS
双管滑动式1200℃四通道混气CVD系统信息由合肥科晶材料技术有限公司为您提供,如您想了解更多关于双管滑动式1200℃四通道混气CVD系统报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。
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