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这款紫外曝光机非常适合对紫外光敏感层的处理,是理想的紫外掩曝光机系统。
应用:紫外曝光机适合光学,生物,微纳科技,光刻等领域需要1-2掩膜的应用。
紫外掩曝光机特点
1)完美的单色曝光,曝光带宽小于10nm;
2)冷紫外曝光,衬底环境温度实时控制,从而实现均匀曝光,消除热效应;
3)超强的功率密度
4) 紫外LED寿命更长,高达10000小时;
5)方便用户使用的触摸屏配置;
6) 不需要预热;
7)计算机控制紫外光源强度调节;
8)自动晶圆装载和卸载功能;
9)超低能耗;
紫外掩曝光机参数
分辨率:2微米
发射光谱:365+/-5nm, 385+/-5nm4英寸晶圆照明: 25mW/cm^2 +/-10%
暴晒时晶圆温度加热:<1摄氏度暴晒循环:1秒~18小时记忆的曝光循环数: 10个
功率:180W
重量:8.2kg
尺寸: 260x260x260mm^2电源: 110V/230v50Hz
紫外曝光机, UVKBU
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