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为SEM和TEM分析生产同质和导电的金属或碳涂层,之前从未有过比与Leica EM ACE200涂层系统更方便的设备了。 配置为溅射镀膜机或碳丝蒸发镀膜机后,可以在全自动化系统中获得完全可重复的结果,实现了一台EM ACE200具有喷金仪,喷碳仪,蒸镀仪三种功能。如果您的分析需要这两种方法,徕卡显微系统在一台仪器中提供可互换机头的组合仪表。 各个选项,如石英晶体测量、行星旋转、辉光放电和可交换屏蔽共同构成这台低真空镀膜机
技术参数:
1、适用于常规SEM/TEM/DEX喷涂要求
2、可选离子溅射模式、碳丝蒸发模式、或双模式、可选挥发放电功能
3、方向型离子溅射模式,可提高平面样品镀膜效果,独特的脉冲式碳丝蒸发模式,实现对碳膜厚度的控制
4、可选配石英膜厚监控器,可程序化控制膜厚,并反馈镀膜仪,精度为0.1nm
5、标配有镀膜金属挡板,可用于干预溅射,确保镀膜纯度
6、专利设计方形样品室,尺寸:140mm宽x145mm深x150mm高,样品台直径80mm
7、工作距离:30-100mm
8、溅射电流:≤150mA
9、极限真空度:≤7x10-3mbar
10、一体化触摸控制界面,操作简单
徕卡Leica EM ACE200真空镀膜仪, Leica EMACE200
徕卡Leica EM ACE200真空镀膜仪信息由迪卡尔科技(天津)有限公司为您提供,如您想了解更多关于徕卡Leica EM ACE200真空镀膜仪报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。
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