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溅射离子枪主要用途:
溅射清洗/表面科学中样品表面处理, MBE and HV 溅射过程
离子辅助沉积
离子束溅射镀膜
反应离子刻蚀
技术指标:
溅射离子枪,等离子体发生源,IonEtch Sputter Gun
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