卧式低温恒温水浴锅CHDCW-3506技术参数:
型号:CHDCW-0506
温度范围(℃):5~100
温度波动度(℃):0.02~0.05
工作槽容积(mm3):250×200×150
工作槽开口(mm2):180×160
槽深度(mm):150
循环泵流量(L/min):6
排水:有
型号:CHDCW-0510
温度范围(℃):5~100
温度波动度(℃):0.02~0.05
工作槽容积(mm3):250×200×200
工作槽开口(mm2):180×160
槽深度(mm):200
循环泵流量(L/min):6
排水:有
型号:CHDCW-1006
温度范围(℃):10~100
温度波动度(℃):0.02~0.05
工作槽容积(mm3):250×200×150
工作槽开口(mm2):180×160
槽深度(mm):150
循环泵流量(L/min):6
排水:有
(更多型号省略)
●以下为卧式低温恒温槽可选配功能:
1. 可选配通讯接口与PC机同步操作。
2. 可选配内置1~30段的程序进行温度控制,自动程序控温,实时显示设定温度及时间程序运行状态。
3. 可选配外接温度传感器功能,实现内外温度设定,可监测和控制外循环时外部装置体系的温度。
4. 可选配重新布局槽体内置的冷却盘管,对反应槽的放热反应进行控制。
5. 可选配设计安装磁力搅拌功能,无需外接立式搅拌机,操作简单方便,可以实现全封闭恒温下的搅拌反应。
6. 脚轮可以根据客户要求加装,拆卸方便。
7. 接受各种尺寸规格或者特殊要求产品的定做。
卧式低温恒温水浴锅CHDCW-3506低温恒温槽原理是:
加热系统采用不锈钢加热管,加热管使用L型,发热端位于底部,便于更换。制冷系统采用铜管制作成蒸发器,蒸发器直接置于水槽内,提高制冷速率。系统由压缩机、冷凝器、节流器、蒸发器组成,循环往复制冷、降低水温。定期检查各部件,保证设备安全运行。卧式低温恒温水浴锅CHDCW-3506具有可控硅的结构和性能。不论可控硅的外形如何,其管芯都由P型硅和N型硅组成的四层P1N1P2N2结构构成。它具有三个PN结(J1、J2、J3),从J1结构的P1层引出阳A,从N2层引出阴级K,从P2层引出控制G,因此它是一种四层三端的半导体器件。由四层半导体材料组成,具有三个PN结,分别是P型半导体引出的阳A,P型半导体引出的控制G,以及N型半导体引出的阴K。与晶闸管的电路符号类似,它是单向导电的器件,区别在于多了一个控制G,从而具有不同的工作特性。
P1N1P2N2四层三端器件是以硅单晶为基本材料,起源于1957年。因其特性类似于真空闸流管,在国际上通常称为硅晶体闸流管,简称为晶闸管T。由于晶闸管在静止整流方面表现出色,因此又被称之为硅可控整流元件,简称为可控硅SCR。可控硅不仅具有单向导电性,还具有更加可贵的可控性,仅有导通和关断两种状态。它能够以毫安级电流控制大功率的机电设备,但超过一定功率后,会出现开关损耗增加,从而需要降低允许通过的平均电流。
可控硅具有许多优点,如以小功率控制大功率,反应迅速,无触点运行,效率高等。然而,其弱点在于静态及动态的过载能力较差,并且容易受干扰误导通。为了利用可控硅的特性,常用的触发电路包括阻容移相桥触发电路、单结晶体管触发电路、晶体三管触发电路等。
高低温恒温槽广泛应用于许多领域。采用风冷式全封闭压缩机制冷的高低温恒温槽制冷速度快,噪音低,具有多重保护装置。智能微机能够快速作出反应,使数显分辨率达到0.1摄氏度。高低温恒温槽分为内循环和外循环,可将恒温液体外引,作为冷源或热源,扩展使用范围。
低温恒温槽在实验室中广泛使用,对样品或产品进行恒定的温度控制或测试。国内低温恒温槽取得了很大的发展和进步,未来趋势可能包括控温精度的进一步提升以及使用材质的改进。低温恒温槽可能会更加精准、性能更优秀。1、未来仪器程序控温技术有望取得巨大进步,目前常见的低温恒温槽通常采用多段程序控温来实现所需的低温环境。3、Hopefully, there will be significant improvements in temperature control development on instruments, as current low temperature constant temperature bathes typically use multi-stage temperature control to achieve the required low temperature environment, and perhaps better programs will be developed in the future.
川宏仪器 CHDCW-3506水浴/油浴, CHDCW-3506
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