inVia显微拉曼光谱仪在突破性石墨烯研究中的应用

2013年2月7日

雷尼绍的inVia显微拉曼光谱仪已在新的研究领域得到应用，用于解决影响石墨烯更广泛开发的主要障碍之一，即生长大面积无缺陷薄膜的难题。

一个由牛津大学科学家Nicole Grobert教授和Adrian Murdock带领的国际小组，与雷尼绍公司以及来自德国尤利希研究中心 (Forschungszentrum Juelich) 和希腊Loannina大学的研究人员合作，使用雷尼绍的inVia显微拉曼光谱仪观察石墨烯薄膜中的膜厚、应力和缺陷。

石墨烯是单层碳原子材料，是率先得到探索的二维材料。它具有非同寻常的电子和机械性能，是科学上已知的传导性最好的材料之一，其断裂强度比钢材料强100倍。

当使用化学气相沉积法 (CVD) 制备石墨烯时，不同取向的各个石墨烯薄片通常合并在一起而产生缺陷。《ACS Nano》杂志上发表的题为 "Controlling the Orientation, Edge Geometry and Thickness of Chemical Vapour Deposition Graphene" 的研究论文指出，底层铜基片的取向可以用来引导石墨烯薄片的生长，使这些薄片排列整齐，从而避免出现这些缺陷。

研究小组成员、雷尼绍拉曼应用专家Tim Batten说：“inVia显微拉曼光谱仪是一个研究石墨烯性能的非常强大的工具。这项研究工作可让我们更好地了解化学气相沉积 (CVD) 方法生长石墨烯，这对于工业生产石墨烯将非常重要。”

2006年，Andrea Ferrari教授（剑桥大学）使用雷尼绍显微拉曼光谱仪首次进行了对石墨烯的拉曼表征。他使用的样品来自石墨烯的发现者 — 诺贝尔奖获得者Andre Geim教授和Kostya Novoselov教授（曼彻斯特大学）。自此，世界各地的研究人员利用借助雷尼绍拉曼系统获得的数据撰写了数以百计的石墨烯科研论文，极大地促进了对这一神奇材料的了解和开发。

有关inVia显微拉曼光谱仪的更多详情，请访问www.renishaw.com.cn/invia

图像：以2D谱带带宽逐点扫描的一个CVD制备的石墨烯样品的拉曼图像。这幅图像描绘出在样品区域石墨烯薄层层数的变化，相比暗红色区域，亮红色区域由较厚材料组成。